E光技術
     E光的核心技術主要有三點：射頻+光能+表皮冷卻。E光技術充分聯合光能和射頻能的優勢互補，利用皮膚對光能的選擇性吸收引起靶組織和正常皮膚的阻抗差異，在光能強度較低的情況下強化靶組織對射頻能的吸收，極大消除了光能過強的熱作用可能引起的副作用、顧客疼痛與不適感。它可以穿透皮膚深層，選擇性作用於皮下色素或血管，分解色斑，閉合異常的血絲，解除您肌膚上的各種瑕疵，同時E光還能刺激皮下膠原蛋白增生。讓您的肌膚變得清爽年輕、健康有光澤.
     特點
     1.精緻的外觀設計，深受廣大國內外客戶青睞！
     2.操作界面採用觸摸式操作台，性能穩定。
     3.高質量進口的內部設置。
     4.多功能，強效果。
     5.操作簡單，安全。
     6.插接式手柄，連接更快，更方便。
    
     技術參數
     射頻頻率: 3MHz
     標準治療頭: 480－1200nm
     530－1200nm
     640—1200nm
     傳輸系統: 藍寶石晶體導光系統
     能量密度: 1---50J/cm2
     脈寬: 1-40ms
     重複率: ≦1P/1S
     光斑: 12×30mm,15×50mm可選
     冷卻系統: 接觸性冷卻-5℃
     電源: AC220V/110V±10%
     50Hz/60Hz±10
     射頻調節範圍: 1---50J
     重量（淨重）: 55kg