作者 SEN特殊光源株式會社社長菊池清

 

紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有污水，污氣產生。是高能環保型清洗殺菌方法。廣氾運用於LCD,PCB，點子，印刷，塑膠，玻璃，塗裝等領域。

紫外線清洗是是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除附着在材料表面的有機物質。經過廣清洗后的材料表面可以達到高清潔度。

其主要原理為紫外線燈發出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數有機物的結合能量。由於大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，並且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后，會產生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強的氧化性，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水，二氧化碳等易揮發氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。

清洗法有乾洗和濕洗兩種。乾洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，碱清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們日常所熟悉的濕式清洗有可以清洗掉較大範圍污染的優點。但是也會有清洗不掉的污染。同時由於清洗的溶劑會在被清洗物表面殘留，因此對於高精密世界來說也是個污染。

與此相反UV紫外線清洗雖然不能清洗掉大範圍的污染，卻可以清洗到各個角落的就是光洗淨技術（以下簡稱UV臭氧清洗）。在納米技術世界里，我們雖然看不到有機性污染，但是有機污染在表面形成膜（軟接着層）如果在這層膜上印刷的話，就會出現鮮度惡化以及針孔等障礙。UV臭氧清洗可以去除的污染有有機化合物以及含有油脂的污染等。

 

 玻璃表面的有機性污染膜厚度在單分子層以下時是非常清潔的表面狀態。即便是在實驗室或這是無菌室里的大氣中也會有微量的揮發性有機化合物或者硫化合物，將洗淨玻璃放置於這種環境下也會被這些蒸汽污染。高度清洗過後的表面接觸角會在30分到1小時內恢復到20度。因此我們認為超高清潔玻璃不易長時間保存。

 

3 可以將粒子極限清洗的清洗工藝

UV臭氧清洗和濕式清洗的結合

UV臭氧清洗是使有機性污染膜清洗到單分子層以下的高清洗技術，如下圖所示在完成清洗階段使用UV臭氧清洗技術。但是UV臭氧清洗對於粒子沒有效果。同時濕式清洗不能完全清除有機性污染，會保留幾個分子層厚度的油膜。被這些油墨所吸收的粒子在沖洗過程中很難被全部清洗掉。UV臭氧清洗是完成階段的清洗，在生產過程中我們發現了如下圖所示UV臭氧清洗后使用例如溫水沖洗的清洗工藝。UV臭氧清洗如圖所示油膜基本上都可以清除。在此之後使用純水沖洗可以將沒有油膜保護的粒子很容易的沖洗掉，得到沒有粒子，沒有有機污染物的高清潔面。

這種技術方法不但在液晶顯示裝置的現場使用，在原版曝光和分光板的製造工程中也被大量使用。