日本NTT ADS 拋光片

本產品由日本NTT研發之二氧化硅ADS拋光片，將0.02微米之顆粒均勻塗布于厚度為3mil精密級之聚酯薄膜的基材上，作為光纖研磨終端拋光之用。

產品規格：5”（127mm）Disc

使用基材：厚度為3mil（75um）之聚酯薄膜

礦砂顆粒：0.02微米（um）之二氧化硅顆粒

產品磨料選用具有良好形貌的微米或納米級氧化鈰微粉，具有拋光效率高，表面狀態好等優點； •黏合體系採用新型高分子材料，具有良好的耐水性和耐醇性； •基材使用高強度薄膜，具有良好的耐熱和抗拉性能； •專有的配方工藝確保磨料顆粒分散均勻； •產品質量穩定，批次之間差異小； •塗層具有較好的強度和柔韌性，能達到理想的曲面拋光效果。 

研磨工藝：

研磨前應先將拋光片保持充分濕潤，並且保持研磨環境之清潔，在每盤拋光完成后，確實地清洗拋光片，可保持拋光片處於良好的拋光效能，使延長拋光片使用壽命，達到更佳的應用效果。

本產品主要用於光纖連接器的最終拋光，也可用於精密光學器件的超精密加工