立式、臥式。是一種多功能、高效的鍍膜設備。可根據用戶要求配置旋轉磁控耙、中耙孿生濺射耙、非平衡磁控濺射耙、直流脈衝疊加式偏壓電源等,組態靈活、用途廣氾,主要用於金屬或非金屬(塑料、玻璃、陶瓷等)的工件鍍鋁、銅、鉻、鈦金、銀及不鏽鋼等金屬膜或非金屬及滲金屬DLC膜,所鍍膜層均勻、緻密、附着力強等特點,可廣氾用於家用電器、鐘錶、工藝美朮品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能塗層。
型號JTZ-1000 JTZ-1200 JTZ-1300 JTZ1400
真空室尺寸¢1400×1400MM ¢1200×1500MM ¢1300×1800MM ¢1400×1800MM
制膜種類:金屬膜、半透明膜、不導電膜、電磁屏蔽膜、介質膜等
電源類型:電阻蒸發電源、直流磁控電源、射頻電源
濺射及電極結構:圓柱磁控靶、平面矩形靶、孿生靶、蒸發電極
真空室結構:立式雙開門、立式單開門、後置抽氣系統/臥式單開門、側置抽氣系統
極限真空:4.0×10-4PA
真空系統組成:擴散泵+羅茨泵+機械泵+維持泵
抽氣時間:從大氣抽至8.5×10-3PA,小於或等於15分鐘
工件運動方式:公自轉/變頻調速
控制方式:手動/自動一體化式,觸摸屏+PLC
備註:以上設備可按客戶實際及特殊工藝要求設計訂做