本多超聲波清洗機W-200-HFMK II  適合細膩的清洗
因為中頻清洗，對工件損傷很少。並且和低頻清洗相比，具有清洗效果均勻，噪音小的特點。
容易清洗微小的贓物
適合於清洗硬盤，半導體，液晶等微小的贓物。
適合於染色，脫氣，溶解，攪拌等用途
使用於磁頭，鏡片等的染色和脫氣，化學品的溶解和攪拌等。

型號：W-200-HFMK II T
振盪方式：單頻振盪
最大功率：200W(可調整功率)
振盪頻率：200KHz
振盪器電源：AC100V/6A、AC200、220V/3A
           (定貨時選擇)
外形尺寸(mm)W×D×H：3000×430×140
使用液溫範圍：50℃
換能器類型：投入型換能器、振動板型換能器