脫模劑粉

技術參數

備註：根據用戶要求可提供不同微米粒度的產品。

應用方向

主要應用於多晶硅和單晶熔煉過程中，石英坩堝脫模用。多晶硅和單晶硅生產時，在原料熔化、晶體生長過程中，硅熔體和坩堝長時間接觸會產生黏滯性。由於兩種材料的熱膨脹係數不同，如果硅材料和坩堝壁結合緊密，在晶體冷卻時很可能造成晶體硅或坩堝破裂。而硅熔體和坩堝的長時間接觸還會造成陶瓷坩堝的腐蝕，使多晶硅中的氧濃度升高。為了解決這些問題，國外工藝上一般採用高純氮化硅材料作為塗層附在坩堝的內壁，隔離硅熔體和坩堝的直接接觸，不僅解決了黏滯問題，而且可以降低多晶硅中的氧、炭等雜質濃度。利用定向凝固技術生長的鑄造多晶硅，多數情況下坩堝是消耗品，不能重複循環使用，即每爐多晶硅都需要消耗一只陶瓷坩堝。採用氮化硅塗層后可使石英陶瓷坩堝得到重複使用，大幅度降低生產成本我公司根據多晶硅和單晶硅生產工藝特點，開發銷售了石英坩堝專用脫膜劑及相關噴塗工藝。高純氮化硅脫模劑粒度在0.5-1.2微米之間，可以有效地解決在塗層高溫固化過程中的氧化問題，使多晶硅和單晶硅的純度獲得大幅度提高，其粉末的純度可達99.99％以上,可用作光伏工業中熔煉多晶硅鑄錠的石英坩堝塗層材料。可有效防止坩堝內壁與熔融硅料粘接，方便脫模，同時起到阻隔層作用，保証硅錠純度。與納米氮化硅或其他類型脫模劑相比，具有優異的抗氧化性能，確保生產過程中碳、氧等雜質濃度獲得有效控制。產品純度高，粒度均勻，性能上完全可與國外同類產品相比較，目前已實現批量化生產。因此可以解決目前國內的石英坩堝塗層粉完全依賴日本UBE、德國Starck等進口，且有較大成本優勢。

貯存條件
本品應密封保存於乾燥、陰涼的環境中，不宜長久暴露于空氣中，防受潮發生團聚，影響分散性能和使用效果，另應避免重壓，勿與氧化劑接觸，按照普通貨物運輸。