該系列小型離子濺射儀是依據二極直流濺射原理設計而成的，最簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。不但滿足掃描電鏡制備薄膜需要，而且也可作為實驗設備，濺射較厚的導電膜層用於其他實驗。

可選擇普通濺射電極，也可選擇磁控濺射電極，有1200V、1600V和3000V電離電壓可選。

可選蒸碳附件

基本指標

靶（上部電極）：Au/Pt：直徑：50mm，厚度：0.12mm 

真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm

樣品台及工作距離：高配旋轉樣品台，簡配固定樣品台，高度手動調節

濺射面積： Ф50mm，最大放置

真空指示表： 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar

離子電流表： 最大電流：50mA/100mA

高壓：-1200V/ -3000V

 定時器： 最長時間：1~3600S

真空度手動控制：微型真空氣閥，可連接φ3mm軟管 

可通入氣體： 多種

機械泵： 2L/S    （120L/min）