芯片開封機,採用雙酸刻蝕,並利用負壓噴霧技術進行刻蝕。根據不同的器件封裝材料和尺寸,可設定不同的試驗條件,進行定位刻蝕。主要可設置的試驗參數包括:採用刻蝕酸的種類、刻蝕酸的比例、蝕刻溫度、蝕刻時間、酸的流量(酸的用量)、清洗的時間等。同時採取漩渦噴酸的方式,可大大降低用酸量,從而能夠比較精確地去除掉芯片表面的封裝材料,達到較好的開封效果。根據器件的不同封裝形式,可選取不同封裝開口模具,可控制開口的位置和大小,目前配有的開口模具有多種,基本滿足目前的封裝需要,如適用DIP/SIP、PLCC 、QFP、PBGA、芯片倒裝BGA 和SO小外型封裝。
設備優勢:
不僅可以單獨使用硝酸或者硫酸來蝕刻,也可以使硝酸和硫酸混合成不同比率的混合酸,最高刻蝕溫度可達 200℃以上,基本能夠滿足市場上各種塑封材料的開封要求。另外將蝕刻劑都密封在玻璃瓶中,用氣壓驅動的方式,根據需要把蝕刻劑壓入或者壓出玻璃瓶,對廢酸自動回收到密封玻璃瓶中,大大降低了污染,提高了安全性。