盤式乾燥機工作原理

　　濕物料自加料器連續地加到乾燥器上部第一層乾燥盤上，帶有耙葉的耙臂作迴轉運動使耙葉連續地翻抄物料。物料沿指數螺旋線流過乾燥盤表面，在小乾燥盤上的物料被移送到外緣，並在外緣落到下方的大乾燥盤外緣，在大乾燥盤上物料向里移動並從中間落料口落入下一層小乾燥盤中。大小乾燥盤上下交替排列，物料得以連續地流過整個乾燥器。中空的乾燥盤內通入加熱介質，加熱介質形式有飽和蒸汽、熱水和導熱油，加熱介質由乾燥盤的一端進入，從另一端導出。已干物料從最後一層乾燥盤落到殼體的底層，最後被耙葉移送到出料口排出。濕份從物料中逸出，由設在頂蓋上的排濕口排出，真空型盤式乾燥器的濕氣由設在頂蓋上的真空泵口抽出。從底層排出的干物料可直接包裝。通過配加翅片加熱器、溶劑回收冷凝器、袋式除塵器、干料返混機構、引風機等輔機，可提高其乾燥的生產能力，乾燥膏糊狀和熱敏性物料，可方便地回收溶劑，並能進行熱解和反應操作。 
 

　　盤式乾燥機主要應用領域

　　乾燥熱解煅燒冷卻反應昇華
　　（一）有機化工產品
　　聚氯乙烯樹脂、聚四氟乙烯樹脂、反丁烯二酸、蒽醌、硝基蒽醌、對氨基苯酚、三聚氰胺、氰尿酸、對氨基苯磺酸、抗氧劑168、色酚As、硬脂酸鹽、苯胺、硝基苯胺、雙季戊四醇、氯化石蠟、甲酸鈣、三乙烯二胺、苯亞磺酸鈉、間苯二甲酸、二甲酯五磺酸鈉、硫脲、油溶性苯胺黑染料、酸性黑染料等有機化工原料和中間體。
　　（二）無機化工產品
　　輕質碳酸鈣、活性碳酸鈣、納米級超細碳酸鈣、碳酸鎂、氫氧化鋁、白灰黑、碳酸鍶、碳酸鋇、碳酸鉀、立德粉、保險粉、硫酸鋇、硫酸鉀、微球催化劑、氫氧化鎂、硫酸銅、硫酸鎳、鎳酸胺、鉬酸鈉、氯化鈉、冰晶石、氧化鐵紅、氫氧化鋰、氫氧化鎳、氫氧化鋯、磷酸鈣、硫磺等。

　　（二）醫藥、食品
　　氨苄青毒素、鄧鹽、左旋苯甘氨酸及中間體、頭孢氨噻、頭孢三嗪、安乃近、西咪替丁、維生素B12、維生素C、藥用鹽、藥用氫氧化鋁、藥用偏硅酸鎂、咖啡因、茶、花提取物、銀杏葉、巧克力粉、澱粉、玉米胚芽等原料及醫藥中間體。
　　（三）飼料、肥料
　　碳酸鉀、生物鉀肥、蛋白飼料、飼料用金黴素、菌絲體、麩皮、酒糟、糧食、種子、除草劑、纖維素、飼料磷酸氫鈣等。 
 　　

　　盤式乾燥機使用特點

　　（一）調控容易、適用性強
　　1、調整料層厚度、主軸轉速、耙臂數量、耙葉型式和尺寸可使乾燥過程達到最佳。
　　2、每層乾燥盤皆可單獨通入熱介質或冷介質，對物料進行加熱或冷卻，物料溫度控制準確、容易。
　　3、物料的停留時間可以精確調整。
　　4、物料流向單一，無返混現象，乾燥均勻、質量穩定、不需在混合。
　　（二）操作簡單、容易
　　1、乾燥器的開車、停車操作非常簡單。
　　2、停止進料后，傳送物料的耙葉能很快地排空乾燥器內的物料。
　　3、通過特殊的大規格檢視門和視鏡，可以對設備內進行很仔細的清洗和觀察。
　　（三）能耗低
　　1、料層很薄，主軸轉速低，物料傳送系統需要的功率小，電耗少。
　　2、以傳導熱進行乾燥，熱效率高，能量消耗低。
　　（四）操作環境好，可回收溶劑，粉塵排放符合要求
　　1、常壓型：由於設備內氣流速低，而且設備內濕度分布上高下低，粉塵很難浮到設備頂部，所以頂部排濕口排出的尾氣中幾乎不含有粉塵。
　　2、密閉型：配備溶劑回收裝置，可方便地回收載濕氣體中的有機溶劑。溶劑回收裝置簡單，回收率高，對於易燃、易爆、有毒和易氧化的物料，可用氮氣作為載濕氣體進行閉路循環，使之安全操作。特別適用於易燃、易爆、有毒物料的乾燥。
　　3、真空型：在真空狀態下操作的盤式乾燥器，特別適用於熱敏性物料的乾燥。
　　（五）安裝方便、佔地面積小
　　1、乾燥器整體出廠，整體運輸，只需吊裝就位，安裝定位非常容易。
　　2、由於乾燥盤層式佈置、立式安裝，既使乾燥面積很大，佔地面積也很小。
  
　　盤式乾燥機技術特性

　　（一）乾燥盤
　　1、設計壓力：一般為0.4MPa，最大可達1.6MPa。
　　2、最高使用壓力：一般≤0.4 MPa，最高可達1.6 MPa。
　　3、加熱介質：蒸汽、熱水、導熱油，乾燥盤溫度≤100℃時用熱水加熱，100℃～150℃時用≤0.4 MPa飽和水蒸氣或過熱蒸汽加熱，150℃～320℃時用導熱油加熱，>320℃時可採用電、導生油、熔鹽等方式加熱。
　　（二）物料傳送系統
　　1、主軸轉速：1～10轉/分，電磁或變頻無級調速。
　　2、耙臂：每層乾燥盤上有2～8支固定在主軸上的耙臂。
　　3、耙葉：絞接在耙臂上，能隨盤面上下浮動保持接觸，有多種型式。
　　4、碾滾：對易結塊和需要破碎的物料，在適當位置配加碾滾，可以強化傳熱和乾燥過程。
　　（三）殼體
　　有常壓、密閉、真空三種型式
　　1、常壓型：原筒或八稜柱形，有整體和對開兩種結構。加熱介質進出口主管道可以在殼體內，也可以在殼體外。
　　2、密閉型：圓筒形殼體，能承受5Kpa內壓，加熱介質進出口主管道可以在殼體內，也可以在殼體外。
　　3、真空型：圓筒形殼體，設計壓力為外壓0.1MPa，加熱介質進出口主管道在殼體內。
 
　　盤式乾燥機技術規格

規格	外徑(mm)	高度 (mm)	乾燥面積 (m2)	功率(kW)	規格	外徑(mm)	高度(mm)	乾燥面積(m2)	功率(kW)
1200/4	1850	2608	3.3	1.1	2200/18	2900	5782	55.4	5.5
1200/6		3028	4.9		2200/20		6202	61.6
1200/8		3448	6.6	1.5	2200/22		6622	67.7	7.5
1200/10		3868	8.2		2200/24		7042	73.9
1200/12		4288	9.9		2200/26		7462	80.0
1500/6	2100	3022	8.0	2.2	3000/8	3800	4050	48	11
1500/8		3442	10.7		3000/10		4650	60
1500/10		3862	13.4		3000/12		5250	72
1500/12		4282	16.1	3.0	3000/14		5850	84
1500/14		4702	18.8		3000/16		6450	96
1500/16		5122	21.5		3000/18		7050	108	13
2200/6	2900	3262	18.5	3.0	3000/20		7650	120
2200/8		3682	24.6		3000/22		8250	132
2200/10		4102	30.8		3000/24		8850	144
2200/12		4522	36.9	4.0	3000/26		9450	156	15
2200/14		4942	43.1		3000/28		10050	168
2200/16		5362	49.3	5.5	3000/30		10650	180