DS-2000/1.0型無掩膜光刻機

無掩膜光刻機技術性能介紹
型號：DS-2000/14
1．技術特征
採用DMD作為數字掩模，像素1024´768
採用14倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約1mm×0.75
採用專利技術——積木錯位蠅眼透鏡實現均明。
採用進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現精確工件定位和曝光拼接，可適應100mm´100mm基片。
採用CCD檢焦系統實現整場調平、自動逐場調焦或自動選場調焦曝光。
具備對準功能
2．技術參數
光源：350W球形汞燈（曝光譜線： i線）；
照明均勻性：±2%；
物鏡倍率：14倍
曝光場面積：1mm×0.75mm
光刻分辨力：1 μm
工件台運動範圍：X：100mm、 Y：100mm；
工件台運動定位精度：±0.65μm；
調焦台運動靈敏度：1μm；
對準精度：±2μm；
調焦台運動行程：6mm
檢焦：CCD檢測，檢測精度2微米
轉動台行程：±6°以上
基片尺寸 外徑:Ф1mm—Ф100mm，厚度：0.1mm--5mm
3．外形尺寸：840mm（長）450mm(寬) 830mm（高）