Chromium Silicide (CrSi2) Ceramic sputtering target

Silicide Ceramic sputtering target

Chromium Silicide , CrSi2 target                    Cobalt Silicide , Co3Si target       

Hafnium Silicide , HfSi2 target                      Molybdenum silicide, MoSi2, Mo5Si3 target       

Nickel Silicide , NiSi target                         Niobium Silicide , Nb5Si3, NbSi2 target       

Tantalum Silicide , Ta5Si3, TaSi2 target                Titanium silicide, Ti5Si3, TiSi2 target       

Tungsten Silicide , WSi2 target                       Vanadium silicide , V3Si, VSi2 target       

Zirconium Silicide , ZrSi2 target      

TYR material supply all kinds of ceramic sputtering target , compound semiconductor target include Oxide sputtering target , Fluoride sputtering target , Boride sputtering target , Carbide sputtering target , Nitride sputtering target , Sulfide sputtering target , Selenide sputtering target , Silicide sputtering target , Telluride sputtering target , Antimonide sputtering target , Arsenide sputtering target.

The available made method include hot pressing , HP, , hot/cold isostatic pressing , HIP, CIP, , and vacuum melting, vacuum sintering

Spec.: Diameter: 355.6mm , 14",  max. Single piece Size: Length: <254mm, Width: <127mm, Thickness: >1mm, if larger size than this, we can do it as tiles joint by 45 degree or 90 degree.

Shape:  discs, plate, rod, tube, sheet, Delta, Rotatable and per drawing

TYR will base on each different material to select the best way to made it and sure the finish ceramic sputtering target  to be best.