China Rare Metal Material Co., Ltd produce kinds of sputtering targets for flat panel display as below:

Alumina doped Zinc Oxide sputtering targets (AZO),

Tin doped indium Oxide sputtering target (ITO)

Niobium Oxide sputtering target(Nb2O5, NbOx)

Magnesium fluoride sputtering target (MgF2)

Molybdenum Niobium sputtering target (MoNb), Mo(90)Nb(10)wt%

Antimony dopedTin Oxide sputtering target ,ATO(Sb2O3:SnO2)

Silicon sputtering target (Si)

Silicon Aluminum sputtering target (SiAl)

Titanium Oxide sputtering target (TiOx, TiO2, TiO )

Niobium doped Titanium Oxide sputtering target (TiOxNb)

biggest size: Disc 18 inch（457.2mm) diameter
Rectangle :450mmx125mm or 420mmx200mm or 360mmx300mm or 330x330mm
 Relative Density: 99%min
produce way: hot pressing
Production Capacity: about 1000kg per month