CMP Pad、进口阻尼布、开槽化学抛光垫

型号：	321
品牌：	SH
原产地：	-
类别：	工业设备 / 工具 / 磨具、磨料
标签︰	晶圆抛光垫 , 蓝宝石抛光皮 , CMP PAD抛光垫
单价：	¥88 / 件
最少订量：	100 件

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产品描述

SUNHIN系列抛光阻尼布用于对半导体晶片的半精抛或精抛，以获得没有缺陷的晶片表面,。
SUNHIN 系列抛光垫片可以对硅片、砷化镓、磷化铟、玻璃硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石晶片、碳化硅晶片等材质或工件进行精密抛光。SUNHIN精抛光布 (Final polishing pad)以聚氨酯为主体材料，经涂层，发泡，削平及拉毛等工艺制成，它的特点是毛长，微孔大，吸药性强，同时，背面涂有高阻水性胶膜，粘结强度大，不宜脱落。SUNHIN拥有专门在抛光垫表面制作各种形状沟槽的设备及工艺，可根据用户要求设计制作各种形状沟槽。沟槽边缘成圆弧状，由于无切铣从而无碎屑及毛丝残留，也无表面硬化问题。

型号	厚度(mm)	压缩比(%)
SH-14	1.30	14.3
SH-08	0.80	12.3
SH-05	0.50	10.6

抛光垫规格项目	具体内容参数
抛光垫常用尺寸	圆形片380mm	圆形片460mm	圆形片610mm	圆形片910mm
	圆形：230(mm)、380(mm)、640(mm)、610(mm)、820(mm)、920(mm)、960(mm)、1180(mm)。厚度从0.45-1.5(mm)，最大宽幅：1.35M
抛光垫常用厚度	0.45-1.5mm
抛光垫的深加工	可针对适用之项目制作不同尺寸形状，制作剖沟、冲孔及背胶加工。可提供背PT耐酸碱AB双面胶（无残留胶）、贴合不同厚度缓冲垫及胶板。
可提供背PT双面胶，刻方格槽、压痕槽、螺纹沟槽。