一、生产工艺图：

从上至下顺序依次为：PET基膜

                    第一层着色层（PET-100  PET-100BH  PET-600）

                    第二层压镭射层

                    第三层真空镀铝层

二、工艺条件：

A、PET镭射包装膜第一道工艺：着色层

   1、配比：PET-100：PET-100BH：PET-600：MEK（丁酮）：环已酮：染料

              3    ：    1     ：  3    ：    4      ：  3   ：适量

 混合后须充分搅拌均匀（一般4个小时内涂布完，以免胶化），网纹棍为150-200目较适合，温度控制在125-130℃左右，涂膜厚度一般为12微米左右。涂膜一天至两天后压镭射比较适合（软压机一般镭射压印温度135-145℃之间），镭射后上电镀铝层。

B、PET镭射包装膜第二道工艺：镭射层

C、PET镭射包装膜第三道工艺：镀铝层

三、参考资料：

1、PET基膜电晕批数须达38达因以上；

2、本系列产品对PET基膜有超强的附着性；

3、稀释剂须依作业环境不同而适量调整。