RIE ICP等离子刻蚀机，反应离子刻蚀，感应耦合等离子刻蚀--北京特博万德科技有限公司

  适用于Si,SiO2,金属，III-V,有机物等材料的刻蚀，系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀氮化物、氧化物以及任何需要氟基化学刻蚀的薄膜或基片（如碳、环氧树脂、石墨、铟、钼、氮氧化物、聚酰亚胺、石英、硅、氧化物、氮化物、钽、氮化钽、氮化钛、钨以及钨钛）

型号有经济型和高端型，有科研应用的型号和小规模及大规模生产的型号，产品性价比高。欢迎您的来电索取相关产品资料。