产品应用：主要用于2-4英寸砷化镓等化合物晶体的生长

产品特点：
◆工业计算机控制系统（WINDOWS 系统界面，操作方便简洁）
◆关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性
◆控温精度高，温区控温稳定性好
◆具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能
◆晶体生长均匀性好、重复性高

主要技术指标
◆工作温度：600～1300℃
◆适应晶体尺寸：2-4英寸
◆加热控制：3/5段控制
◆温区稳定性：±0.5℃（1000～1300℃）
◆升温速率：0～30℃/min，连续可调
◆最小位移速率（VB）：2mm/h

配套设备：合成炉、铸锭炉、脱氧封管炉等