超純水是美國科技界為了研製超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有任何雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，一般不可直接飲用，對身體有害，會析出人體中很多離子。
     製作18x106Ω•cm以上的超純水,是一般工藝很難達到的程度，採用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，同時對終端出水使用的管路都需要有一定的要求，電阻率方可達18.25MΩ*cm

中國國家實驗室用水規格GB6682-92標準,點擊行業應用查詢標準
    
制備超純水設備的工藝大致分成以下幾種：半導體超純水設備,單晶硅超純水設備,二極管超純水設備

1、採用離子交換樹脂制備超純水的傳統水處理設備方式，其基本工藝流程為：原水→砂碳過濾器→陽床→陰床→混床→純水箱→純水泵→後置精密過濾器→用水點
2、採用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→砂碳過濾器→反滲透設備→原水箱→純水泵→混床→後置精密過濾器→純水箱→用水點
3、採用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→砂碳過濾器→反滲透設備→原水箱→純水泵→電去離子（EDI）→純水箱→用水點
4、採用反滲透+混合床方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→砂碳過濾器→反滲透→中間水箱→中間水泵→混合床→微孔過濾器→用水點

以下為一經典18x106Ω•cm工藝流程及圖片：

原水→原水泵→砂碳過濾器→加藥裝置→一級反滲透→中間水箱→PH調節裝置→二級反滲透→二級水箱→輸送泵→精密過濾器→TOC去除機→EDI→超純水箱→輸送泵→拋光混床→UV殺菌器→精密過濾器→用水點

      
常用行業：
集成電路工業中用於半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的製作也都要使用超純水半導體超純水設備,單晶硅超純水設備,二極管超純水設備



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