基本參數

品牌：	Alpha
用途：	半導體/EMC產品、 基板表面污染物清洗
型號：	AL-76
加工定製：	否
類型：	清洗機
功率：	1200
適用星級：	五星級

詳細說明

          英展有限公司代理德國微波等離子清洗機設備， Alpha Plasma 研發和生產世界高質量的等離子系統，適用于半導體和復合材料工業的表面活化，清化和鍍膜工藝。

 

清洗EMC產品微波等離子vs 射頻 三大優勢
微波（Alpha Microwave）	射頻（RF）
可清洗尺寸75*244mm的EMC產品，清洗很乾淨	無法清洗，清洗不乾淨
針對EMC小杯子材料，能夠完全清洗到底部，無損傷	清洗EMC產品無優勢，杯子小，射頻清洗不到底部
腔體無污染，無需清洗腔體	由於再沉積導致基板或者腔體交叉污染，需要頻繁清洗

 

 

 微波等離子清洗機 AL76 的特點：  

 

         微波等離子清洗機 AL76 緊湊型

 

        提升引線鍵合品質 提升塑封成形品質

 

        提升裝片品質

 

        提升倒裝芯片底部填充品質

        

        可滿足360全芯片封裝

               

 

 

 技術規範:

 

工作腔體: 鋁

 

容積 :76 公升

 

腔體尺寸 :寬 400 mm X 長 490 mm X 高 400 mm

 

腔體的門 :抽屜型，具有觀察口

 

微波功率 :2,45 GHz,可調範圍 50 至 1200 Watts

 

氣體供應 :3 個標準型的數字氣體流量控制器

 

真空規格 :Baratron, 1 - 1000 Pa

 

真空系統 :DN 63 ISO-K

 

真空閥門 :電-氣 節流閥

系統控制: PC, Windows, RS 232, USB, 以太網 (也適用於遠程控制) 10,4” 顯示器,觸摸屏, 圖形化的用戶界面軟件 Windows Office 可兼容:

 

現狀和錯誤信息,可存儲工藝數據和錯誤信息

 

工藝數據的輸出

 

工藝參數可進行圖形監控

 

自動和手動的操作模式

 

可選項真空泵 復合型真空泵,吸取能力 250 m3/h氣體管道 額外的數字氣體控制 (增加到4個) 可旋轉的工作台 鋁,350 mm, 速度可調節 ECR 設施 鋁,

 

帶有永久磁性的機架裝置 設施 3/N/PE AC 50 Hz 400/240 V 16 A

 

尺寸 寬 1050 mm X 長 800 mm X 高 2020 mm (含指示燈)

 

重量 95 kg 不含泵 ; 260 kg 含泵

 

 

 

 

 

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