型號: | s-SNOM |
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品牌: | 瑞宇 |
原產地: | 美國 |
類別: | 電子、電力 / 儀器、儀表 / 光學透鏡和儀器 |
標籤︰ | 近場光學 , 納米光學 , 原子力顯微鏡 |
單價: |
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最少訂量: | - |
s-SNOM技術使用金屬鍍層的原子力(AFM)探針針尖代替傳統光纖探針來增強樣品的納米尺度區域的散射,散射信號可以在遠場被檢測到。而這些散射信號攜帶了樣品在金屬探針針尖下納米級區域的複雜光學性質。具體而言,這些散射光的信息包括光的振幅和相位,通過適當的模型,這些測量可以估算出針尖下樣品納米尺度區域材料的光學常數(n,k)。在某些情況下,光學相位與波長還提供了一個與同種材料常規吸收光譜近似的光譜信息。
瑞宇科技的散射式近場光學顯微鏡建立在基於具有領先地位的納米光學表征工具原子力顯微鏡AFM的基礎之上。s-SNOM設計具有無與倫比的性能,高度集成,全面自動化,使用靈活,為研究生產力和易用性設定了新的標準。
瑞宇科技的散射式近場光學顯微鏡特別適用於硬質材料,特別是具有高反射率、高介電常數或強光學共振的材料。它與瑞宇科技的納米紅外光譜成像顯微鏡(NanoIR)配合使用,可以完成對所有物質納米尺度的化學性質分析及探索。
瑞宇科技的散射式近場光學顯微鏡的分辨率僅由AFM針尖的曲率半徑決定,與入射光源的波長無關,能夠在可見、紅外和太赫茲光譜範圍內,提供最佳10nm空間分辨率的光譜和近場光學圖像。
產品特點:
? 10nm空間分辨率近場成像和光譜;
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? 專利的快速成像和采譜技術,10倍于傳統的空間光譜成像;
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? 專利背景壓制技術和高效光學信號收集技術,確保在10nm空間分辨率下仍然保持極高的信噪比;
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? 預先校準光路,操作極其簡便;
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? 模塊化設計,可拓展性強;
應用:
由於瑞宇科技的散射式近場光學顯微鏡和光譜譜圖的可靠性和可重複性,s-SNOM業已成為納米光學領域熱點研究方向的首選科研設備,廣氾適用於各種無機物和有機物,如表面等離子體、納米天線、2D材料(石墨烯,BN),納米結構,半導體,絕緣體,生命科學,高分子材料等,在等離基元、納米FTIR和太赫茲等眾多研究方向得到許多重要科研成果。
石墨烯等離子體的s-SNOM相位和振幅圖像(上—相位圖像三維視圖;左—相位和SPP駐波線橫截面;右—s-SNOM振幅圖)
光學近場顯微鏡的光譜和成像。(上—波長相關的複雜光學性質;下左—共振(1659cm-1)的s-SNOM相位圖像;下右—非共振(1605cm-1)的s-SNOM相位圖像)
s-SNOM圖像顯示了棒狀天線上的偶極子散射。(上—覆蓋在形貌圖上的s-SNOM圖像;下左—AFM圖像;下右—s-SNOM圖像)
紫外膜的s-SNOM測量揭示了蛋白質在脂質膜內的分布。(上—AFM高度圖;下左—當紅外激光源調諧到酰胺I吸收帶產生共振時(1667cm-1)s-SNOM相位圖像;下右—非共振時(1618cm-1)s-SNOM相位圖像)
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最後上線︰ | 2016/03/11 |