設備用途：實驗爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用於大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
 

主要技術參數： 
◆工藝管數量：1-4管
◆工藝管口徑：Φ90-360mm（3～12英吋）
◆工作溫度範圍：400～1280℃
◆恆溫區長度及精度±0.5℃/1080mm
◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）

◆結構型式：臥式熱壁型
◆氣體流量設定精度:±1％F.S