PECVD設備
產品簡介： PECVD在太陽能光伏行業中，用於制備減反射膜。PECVD可澱積氧化硅、氮化硅等薄膜。
產品特點及優勢：
自動上下料裝置
配備自動舟昇降，舟進出等功能，實現四層爐體的自動舟存取全自動化，避免了人工搬上搬下的繁重體力勞動和不確定性。
穩定的射頻引入方式方便可靠的電極連接方式穩定、直觀、易於操作
高性能進口原器件組合
採用進口壓控系統、射頻源、干泵、流量計及進口氣路元器件，確保設備運行的可靠性和工藝的均勻性。
成熟工藝，成熟產品
五十餘年專業電子設備研發經驗，鑄就成熟工藝及成熟產品，且成膜均勻性好並具有較高的轉換效率；應用於國內多條太陽能電池片生產線.

技術參數:
•產能：125×125mm，288片
          156×156mm，240片
•結構型式：---------------------------------臥式熱壁型
•工作溫度範圍：------------------------------150～500℃
•恆溫區長度及精度：--------------------------------±1℃/1300mm
•折射率：-----------------------------------2.0～2.2
•系統極限真空度：--------------------------- 優于1Pa
•工作壓力範圍及精度：------------------------±0.3pa/100～300閉環控制
•系統漏氣率：--------------------------------〈1.5pa/min
•控制方式：---------------------------------- 工業微機控制
•澱積薄膜均勻性(80Å情況下):
薄膜    片內    片間    批間
Si3N4   ±5％   ±5％   ±5％