半導體濺射膜片清洗設備:

沒有圖片

產品描述

半導體濺射膜片清洗設備:

⑴超聲清洗，加熱清洗為單槽定時控制，到時給予結束提示音。

⑵工藝過程：上料→支離子水超聲清洗→去離子水加熱清洗→去離子水沖洗→ 下料2．結構特點：本設備為櫃體式，操作面帶有透明門窗。

3.槽體材料為德國進口聚丙烯（磁白色PP板），焊口採用SS外包5mm厚德國磁白色PP板，外型美觀實用；加熱槽裝有溫控表（pompon）和傳感器。

4、每個清洗槽互不影響，超聲、沖洗清洗槽的上給水（沖洗清洗槽配有熱水）、下排水為手動方式。

⑸配有可調節式的排風裝置。

⑹配有美國進口氮氣槍。

⑺電控部分採用密封保護方式配有緊急停機及報警裝置。