液晶－蝕刻減薄設備(非標設備)

1．設備概要

本設備對應ITO膜厚，利用四個區的蝕刻單元實施處理，根據膜厚不同，通過開關選擇，切換氣閥等管路系統。通過噴淋、傾斜和風刀去除液體，從而實現ITO膜的蝕刻過程。為對應彩色基板，可使用50℃（MAX55℃）液溫的蝕刻液（鹽酸、DIW、氯化鐵）。

2．設備規格

（1）處理對象：STN、CSTN液晶用玻璃板

（2）處理目的：ITO膜蝕刻，乾燥

（3）玻璃尺寸： 14″×16″，17″，T=0.4、0.55、0.7、1.1mm

（4）籃子規格：貴公司提供

（5）基板傳送方向：從左到右，或從右到左

（6）設備外形尺寸：約11380×1400×1650mm

（7）乾燥重量：約7000Kg

（8）基板傳送高度：從地面至基板下面為900mm

（9）傳送方式：水平枚葉式傳送方式

（10）傳送滾輪間距：基本為80mm

（11）處理時間：標準17秒/塊；標準傳送速度約2.1m/分

（12）啟動準備時間：啟動后約60分鐘

3．外供電源

（1）主機：3相，380V，50Hz，約58kWA

（2）純水用量：約32L/min，0.15Mpa G，電阻值10MΩ/cm以上

（3）冷卻水用量：約0L/min

（4）空氣用量：約2500NL/min，0.4～0.5Mpa G，潔淨乾燥氣