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匀胶机：SM 系列

SAWATEC手动匀胶机适用于没有或有较小表面起伏结构的基板。拆装操作简便

的真空吸盘可提供标准样式尺寸和客制样式尺寸，极大地满足各种应用需求。

所有市面上的光刻胶都可以均匀地涂布在最大直径300毫米或9x9英寸的方形基

板上。

该匀胶机系列可提供便携桌上式，内嵌式及移动柜式三种类型。

 

热板：HP 系列

SAWATEC为一般半导体光刻，微电机光刻以及类似的应用中的软烤和硬烤工艺

提供不同类型的热板。手动的热板拥有坚实的部件，并且操作也简单。由于热板

实际运行温度曲线和设定的温度差别非常小，因此涂层的质量能够得到很好的

保障。

该系列可用于最大300mm的晶圆或者12x12寸的基板，具备便携桌上式，内嵌

式和移动柜式三种类型。

 

喷胶机：iSPRAY 系列

SAWATEC iSPRAY-300喷胶机针对具有崎岖表面特征和深层面结构的基板，

可以最大程度地确保涂胶均匀性，是手动喷胶和喷雾式显影工艺的理想选择，

特别适用于研发实验室，和以试产和小量产为目的的微机电晶圆生产（例

如，3D微结构。

iSPRAY-300喷胶机设计可满足直径最大300毫米的圆形晶圆和12x12英寸的方形

基板。

 

显影机：SMD 系列

SAWATEC SMD显影机具有令人信服的高性能，低药液消耗量，以及可靠的重复

性的优点，即使是在厚光刻胶层的应用里面也是如此。

SMD系列设计可应用于清洁，显影，蚀刻和去胶工艺，适用于最大直径为300

毫米的晶圆和9x9英寸的方形基板。凭借操作简便和易于清洁的优势，该系列

设备是实验室，研究开发，研究所和试产项目的绝佳选择。

该系列设备可提供内嵌式和移动柜式两种类型。

 

旋转冲洗干燥机: SRD 系列

SRD系列的旋转清洗干燥机可被用于清洗放置于晶舟盒内的晶圆或基板，采

用的手段为化学湿法工艺和通过旋转离心力和加热氮气实现的有效干燥功

能。SAWATEC旋转冲洗干燥机采用了密封的不锈钢工艺处理舱，因具备优良的

工艺品质和高效生产力而令人信服。

SRD系列产品可以用于50mm到200mm的晶片，最多可以容纳4个晶片盒，每个

盒子可以容纳25个晶片。

该系列设备可提供柜式，双层或内嵌入湿法化学工艺台内三种类型。