产品名称：	铱靶、铂靶、钯靶、银靶、铑靶
牌号规格：	Ir1、Pt1、Pd1、Ag1、Rh1
用途 ：	主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。

 

产 品 详 情

随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。

另外我们为客户提供铜背板与铱靶材的绑定服务技术（Bonding），由纯铟作为中间的焊接材料使用铜底板与靶材紧密的结合，有利于靶材表面温度的快速散掉，提高靶材的使用率。

 

铱溅射靶材Iridium (Ir)

    规格尺寸：

形状	圆形、方形
尺寸	Φ50~170mm
厚度	3~15mm
纯度	≥3N5

注：具体尺寸请联系销售。

 

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铱靶材（Ir）Iridium

 

一：高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材（Ir），即铱靶，作为一种卓越的高科技材料，以其独特的物理和化学性质，在多个行业中展现出无可比拟的应用优势。铱靶材以其高纯度著称，通常纯度可达99.99%甚至更高，这意味着它几乎不含有任何杂质，从而确保了电流传递的高效性和稳定性。这种高纯度特性使得铱靶材在电子束蒸发、溅射镀膜等高科技领域成为不可或缺的关键材料。

我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产单材质靶材如下：

SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

 

• 特性概述：

1、在物理性质方面，铱靶材展现出极高的熔点，高达2454℃，远超大多数金属。这一特性使得铱靶材在高温环境下仍能保持优良的物理和化学稳定性，成为许多极端条件下工作的理想选择。此外，铱靶材的密度达到22.56 g/cm³，具有较高的抗拉强度和硬度，进一步增强了其在各种应用中的稳定性和耐久性。

2、在导热性能方面，铱靶材同样表现出色。其高效的热量传递能力和出色的热稳定性，使得在高温条件下，铱靶材能够保持较低的热阻，确保热量快速而均匀地传递，有效防止了热量的积累和散失。这一特性在电子、航空、核能等领域的应用中尤为关键，为设备的稳定运行提供了有力保障。

三、行业应用优势：

铱靶材在行业中的应用优势显著。在科研领域，铱靶材被广泛应用于制作科学仪器、热电偶、电阻线等，其高纯度和稳定的物理性能为科研实验提供了高质量的薄膜材料。在燃料电池和光伏器件领域，铱靶材的优良导电性和耐腐蚀性使其成为这些领域的理想材料，有效提升了设备的性能和寿命。此外，铱靶材还广泛应用于高温装置、触点材料等工业领域，其高熔点和耐腐蚀特性使得在极端工作条件下仍能保持稳定的性能。

总的来说，高纯贵金属磁控溅射镀膜铱靶材以其高纯度、高熔点、优异的导热性能和稳定的化学性质，在多个行业中展现出广泛的应用前景和不可替代的优势。随着科技的不断发展，铱靶材的应用领域还将不断拓展，为更多高科技产品的研发和生产提供有力支持。

 

二、金属钯(Pd) 
 

高纯度磁控溅射贵金属钯(Pd)镀膜靶材及铂合金，钯粒，钯板，科研院校首选

 

高纯贵金属钯(Pd)  科研实验材料  溅射镀膜 蒸发镀膜 半导体 纯度99.999%  尺寸可定制 提供背板绑定服务

 

贵金属靶产品总述：

    随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。

 

稀贵重金属名称：	铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶
牌号规格：	Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1
用途 ：	主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。

 

 

 

贵金属磁控溅射沉积镀膜钯靶材Palladium (Pd) Targets

规格尺寸：

形状	圆形、方形
尺寸	按客户要求定制加工
厚度	按客户要求定制
纯度	≥4N

注：具体尺寸请联系销售。

三、金属铑

贵金属铑（Rhodium, Rh）

 

• 高纯贵金属铑（Rhodium, Rh）溅射靶材、铑环及铑颗粒作为蒸发镀膜材料，以其卓越的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中占据着重要地位。

PRECIOUS METALS   稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒
Gold (Au)	Palladium (Pd)
Silver (Ag)	Platinum (Pt)
Gold Arsenic (AuAs)	Rhenium (Re)
Gold Tin (AuSn)	Rhodium (Rh)
Iridium (Ir)	Ruthenium (Ru)
Osmium (Os)

我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产稀贵金属材料如下：

 

• 材料特性：

1、高纯铑溅射靶材的纯度通常达到99.95%以上，甚至可达99.999%的极高纯度，这意味着其杂质含量极低，能够确保镀膜过程的纯净性和最终产品的卓越性能。铑的密度为12.41g/cm³，这使得铑靶材在溅射过程中能够稳定地释放原子，形成致密且均匀的薄膜。此外，铑的熔点高达1966°C，沸点更是达到3695°C至3727°C之间，这一特性赋予了铑靶材在高温环境下的卓越稳定性和耐腐蚀性，为高温镀膜工艺提供了坚实保障。

2、铑环和铑颗粒作为蒸发镀膜材料，同样具备高纯度和优异的物理性能。它们能够在蒸发过程中均匀且稳定地释放铑原子，形成高质量的薄膜，满足高精度、高要求的镀膜需求。铑的高反射率和良好的导电性，使得其在光学和电子领域具有广泛的应用潜力。

三、行业应用：

1、高纯铑溅射靶材、铑环及铑颗粒蒸发镀膜材料展现出了显著的优势。在电子工业中，铑靶材被广泛应用于制备高精度电阻、传感器以及高频电子设备的关键部件。其高纯度和稳定性确保了电子元件的高精度和长寿命。同时，铑的高反射率也使其成为制作高反射率反射镜和光学元件的理想材料。

2、在镀膜行业中，铑环和铑颗粒蒸发镀膜材料被用于制备高性能的镀膜层，如汽车玻璃、建筑玻璃以及光学信息存储介质等。铑镀层不仅色泽坚固、不易磨损，而且反光效果好，能够显著提升产品的外观和性能。此外，铑镀层还具有良好的耐腐蚀性和化学稳定性，能够在恶劣环境下保持长久的性能。

3、铑靶材还在化工生产中发挥着重要作用。它可以用于制备催化剂，如铑基氧化物催化剂，在有机合成和石油化工反应中展现出优异的催化性能。这些催化剂能够加速反应速率、提高产率和选择性，为化工行业的发展提供了有力支持。

综上所述，高纯贵金属铑溅射靶材、铑环及铑颗粒蒸发镀膜材料以其卓越的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中发挥着重要作用。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，这些材料将继续为提升产品质量、推动产业升级贡献重要力量。

四、
 

高纯贵金属铂(Pt)溅射真空镀膜铂靶材及铂合金管坩锅蒸发镀膜颗粒，科研高纯度溅射材料

 

贵金属靶产品总述：

随着靶材在磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等产业的发展，我们加大在稀贵金属靶材研发和制备方面的投入力度，通过原料控制、真空感应熔炼、挤压、轧制、真空热压烧结、热等静压、放电等离子体烧结等不同工艺, 并采用严格的质量控制过程，我们能够制备多种靶材并能一直保持着批量供货。

 

稀贵重金属名称：铂靶、钯靶、银靶、铱靶、铑靶

牌号规格：Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1

用途：主要用于磁记录介质、电子半导体、薄膜太阳能及平面显示等领域。

 

产 品 详 情:  该材料主要用于仪器、仪表导电环及其他用途，如电容式变送器输油管等。

产品名称：高纯铂Platinum (Pt)溅射靶材及铂合金管材铂坩埚

牌号规格：Pt1、Pt2、PtRh10

用途备注：还应用于仪器、仪表导电环及其他用途，如电容式变送器输油管等

 

序  号	合金牌号	熔  点℃	密  度g/cm3	电 阻 率μΩ.cm	维氏硬度（不小于）
1	Pt1、Pt2	1769	21.4	9.9	110
2	PtIr10	1780	21.5	24	160

 

 

铂溅射靶材 (Platinum-Pt)，铂坩埚器皿

规格尺寸：

形状	圆形、方形、坩锅
尺寸	按客户要求定制加工
厚度	按客户要求定制
纯度	≥4N

注：具体尺寸请联系销售。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

贵金属铂Platinum (Pt)

• 高纯贵金属铂Platinum (Pt)溅射镀膜靶材及铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料，作为现代高科技产业中的关键材料，以其卓越的物理特性和广泛的应用优势，在多个领域发挥着不可替代的作用。

PRECIOUS METALS   稀贵金属材料、电子束蒸发颗粒
Gold (Au)	Palladium (Pd)
Silver (Ag)	Platinum (Pt)
Gold Arsenic (AuAs)	Rhenium (Re)
Gold Tin (AuSn)	Rhodium (Rh)
Iridium (Ir)	Ruthenium (Ru)
Osmium (Os)

我司深耕靶材领域十年，专注研发与生产，铸就行业精品。所生产稀贵金属材料如下：

 

 

 

• 材料特性：

1、首先，从材料特性来看，高纯铂靶材的纯度通常达到99.99%以上（即4N或更高），甚至可达99.999%（5N），这意味着其杂质含量极低，确保了镀膜过程的纯净性和最终产品的卓越性能。铂的密度为21.45g/cm³，使得铂靶材在溅射过程中能够稳定地释放原子，形成致密且均匀的薄膜。同时，铂的熔点和沸点分别高达1773℃和3827℃，这一特性赋予了铂靶材在高温环境下的卓越稳定性和耐腐蚀性，为高温镀膜工艺提供了坚实保障。

2、铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料则结合了铂的优异性能与合金的多元特性，通过调整合金成分，可以进一步优化材料的物理和化学性能，满足特定应用需求。这些颗粒材料在蒸发镀膜过程中，能够均匀且稳定地蒸发，形成高质量的薄膜，提升产品的整体性能。

三、在行业应用：

1、高纯铂靶材及铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料展现出了广泛的应用优势。在太阳能电池领域，铂靶材被用于制备高效电极，其高导电性和化学稳定性确保了电池的高效稳定运行。在平板显示器制造中，铂靶材则用于制作透明导电膜，提高了显示器的对比度和色彩准确性。此外，铂靶材还广泛应用于金属有机物化学气相沉积（MOCVD）等领域，为制备高质量薄膜和涂层提供了重要支持。

2、铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料在蒸发镀膜工艺中同样表现出色。它们不仅具有铂的高熔点和耐腐蚀性，还通过合金化提高了材料的机械性能和加工性能。这使得铂合金管坩埚能够在高温、高真空环境下稳定工作，为蒸发镀膜过程提供可靠的容器支持。同时，铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料还具有良好的蒸发性能和成膜质量，能够满足高精度、高要求的镀膜需求。

综上所述，高纯贵金属铂溅射镀膜靶材及铂合金管坩埚蒸发镀膜颗粒材料以其卓越的物理特性和广泛的应用优势，在高科技产业中发挥着重要作用。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展，这些材料将继续为提升产品质量、推动产业升级贡献重要力量。