高纯度贵金属靶材，磁控溅射科研院校镀膜锇靶材Osmium (Os)锇PVD镀膜材料  

 

产品名称：	锇靶，锇粒，锇粉，锇丝
牌号规格：	Os 1
用途 ：	主要用于电阻、继电器、火花塞电极、电触头、热电偶及印刷电路等

 

 

 

 

 

 

产 品 详 情

贵金属锇及其合金在石油化学工业上主要作催化剂。

在电子电器工业上，作电阻、继电器、火花塞电极、电触头、热电偶及印刷电路等。

在玻璃工业上，金属锇不会使熔化的玻璃污染，可作为制造光学玻璃时的容器内衬。

锇铱合金可以作钟表和仪器中的轴承，制造笔尖和唱针。

传统上，锇用来制作钢笔尖，现在应用于生产磁控溅射镀膜靶材。

 

锇溅射靶材Osmium (Os)

形状	圆形、方形
尺寸	Φ50~100mm
厚度	3~15mm
纯度	≥3N5

注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。

 

高纯度稀有金属铼靶材 磁控溅射靶材 Rhenium (Re) 铼钨铼钼合金靶板  PVD镀膜材料

 

产品名称：	铼靶 Rhenium (Re)
牌号规格：	Re1
用途 ：	主要用于高温恶劣条件下的电极材料，宇宙航空设备的部件制造。

 

产 品 详 情

铼是一种银色金属，由于铼的价格较高，因此在应用上受到了限制。可做为磁控溅射使用，常见的有铼板、铼坩锅、铼颗粒、铼丝材；铼的合金有钨铼合金（W-Re）、钼铼合金(Mo-Re)。由于钨铼、钼铼合金有着优异的高温强度和高温塑性，为此基材制作的各种结构件，加热器，异型零件被广泛的应用于航天航空，原子能，超高温合金，半导体磁控溅射，高温热场等业领域。

铼溅射靶材 Rhenium (Re)

形状	圆形、片状、坩锅、颗粒、丝材
尺寸	根据要求定制
厚度	按要求定制
纯度	≥4N

注：其它尺寸可根据客户要求制作。具体尺寸请联系销售。

 

高纯度贵金属 钌（Ru）磁控溅射镀膜沉积靶材PVD镀膜材料蒸发颗粒 科研实验 尺寸定制

 

产品名称：	钌（Ruthenium -Ru）溅射靶材
牌号规格：	Ru2
用途备注：	钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等

 

产 品 详 情

   贵金属钌薄膜由于其独特的物理、化学和催化性能，被广泛用于电子、电气和催化领域，例如垂直磁记录媒介中的中间层、大规模集成电路中的铜扩散势垒等。本公司具有完善的靶材加工、质量控制和残靶回收技术，能够制备出满足客户不同需求的高品质大尺寸钌(Ru)溅射靶材。

规格尺寸
形状	圆形、方形
尺寸	Φ10~200mm
厚度	3~15mm
纯度	4N
注：其它尺寸可根据客户要求制作。