高纯金属Cr铬靶材 磁控溅射 PVD真空镀膜靶材 颗粒 纯度99.99%  科研实验材料 尺寸定制 背板绑定服务

 

铬靶材，作为一种利用铬（Cr）元素制成的目标材料，在物理蒸发和溅射过程中扮演着至关重要的角色。其独特的物理与化学特性，如高熔点、良好的电导率和耐腐蚀性，使其成为薄膜沉积领域的理想选择。本文将详细介绍铬靶材的基本特性、纯度、密度、熔点、化学成份等物理性能，并探讨其在各行业中的应用优势。我司专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产单材质靶材、电子束蒸发颗粒材料如下：

SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

 

基本介绍

铬靶材是一种钢灰色、有光泽、坚硬且脆性的过渡金属。在真空中，铬靶材可以产生相对稳定的铬离子束，这一特性使其适用于制作衬底或表面涂层，用以保护基材或制作一些特别需要高氧化抗性的工业零件。铬靶材的形状多样，包括平面靶和异型定制靶，以满足不同应用的需求。其纯度通常可以达到2N5、3N甚至3N5，确保了高纯度的薄膜沉积。

1、物理性能

纯度：铬靶材的纯度是衡量其质量的重要指标。高纯度意味着更少的杂质，从而能够提高薄膜的电导率和光学性能。通常，铬靶材的纯度可以达到99.95%或更高，确保了薄膜沉积的高质量和稳定性。

密度：密度是指铬靶材的质量与体积的比值。接近理论密度的铬靶材能够保证更高的溅射效率和薄膜均匀性。理想的铬靶材应接近或达到铬的理论密度（约7.19 g/cm³），以确保最佳的溅射效果。

熔点：铬的熔点高达1907℃，这一特性使得铬靶材在高温环境下表现出极佳的稳定性和耐用性。特别适用于需要高温加工的材料制备过程，如半导体制造中的薄膜沉积。

其他物理性能：铬靶材还具有良好的导热性和显著的硬度，这些特性使得其在高温和高压环境下仍能保持稳定。此外，铬靶材的晶粒大小通常在微米级别，细小的晶粒有助于形成平滑且均匀的薄膜，对提高薄膜的机械性能和耐腐蚀性有重要影响。

2、化学成份与化学性能

铬靶材的主要成分是铬（Cr），一般含量在95%以上。铬是一种银灰色的金属元素，具有良好的耐腐蚀性和耐磨性。在镀膜过程中，铬可以提供良好的导电性和较高的反射率。除了铬之外，铬靶材中还可能含有微量的其他元素，如镍（Ni）、铜（Cu）、钛（Ti）等，这些元素的存在可以进一步改善靶材的性能。

铬靶材具有良好的抗氧化性和耐腐蚀性，能够在自然环境下形成一层稳定的氧化膜保护金属不被进一步腐蚀。这一特性使铬靶材成为制造防护涂层和腐蚀性环境中使用的薄膜材料的理想选择。

3、行业应用优势

半导体制造：在半导体制造过程中，铬靶材被广泛用于沉积薄膜，用于制作微电子设备的导电路径和连接。通过优化电路的导电性和稳定性，显著提高了半导体器件的整体性能。此外，铬薄膜的高耐热性和优良的化学稳定性也极大地增强了半导体产品的可靠性和耐久性。

太阳能电池板制造：在太阳能电池板的生产中，铬靶材通过提高电池的光吸收率和减少表面反射率，进而提升太阳能转换效率。这对于增加太阳能电池板的发电量、降低能源成本具有重要意义。

汽车工业：铬靶材在汽车工业中也有广泛的应用。为了在车轮和保险杠上形成光亮的涂层，铬靶是很好的材料。此外，铬靶材还可以用于汽车玻璃的涂层处理，提供额外的防腐蚀保护并增强产品的耐用性。

其他工业应用：铬靶材还被广泛应用于电子元件、显示器、工具等的物理沉积薄膜和功能涂层制备中。在光伏电池制造、电池制造以及化工、造船、航空、核反应堆等行业中也发挥着重要作用。

综上所述，铬靶材作为一种高性能的磁控溅射靶材材料，凭借其独特的物理与化学特性以及广泛的应用优势，在薄膜沉积领域具有不可替代的地位。随着科技的不断发展，铬靶材的应用领域还将不断拓展，为各行各业提供更加优质、高效的解决方案。

 

 

Hf铪靶材，是一种高端且精密的磁控溅射靶材

 

一、Hf铪靶材，作为一种高端且精密的磁控溅射靶材，在现代科研、高等教育实验室以及工业镀膜技术中占据着举足轻重的地位。其独特的材料特性——高纯度、优异的物理性能以及卓越的化学稳定性，共同构筑了Hf靶材在多个领域广泛应用的基础。我司专注研发与生产，铸就行业精品。公司生产单材质靶材、电子束蒸发颗粒材料如下：

SINGLE ELEMENTS 单材质靶材、电子束蒸发颗粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

 

二、材料特性解析

1、高纯度：Hf铪靶材的纯度是其核心价值所在。市场上高品质的Hf靶材往往能达到99.95%甚至更高的纯度标准，这意味着在制备过程中几乎去除了所有杂质元素，从而确保了溅射过程中产生的Hf离子束的纯净度。高纯度不仅提升了镀膜或薄膜的均匀性和一致性，还减少了因杂质引起的性能下降或缺陷，为科研和工业应用提供了可靠保障。

2、良好的物理性能：Hf铪作为一种过渡金属，具有适中的密度和较高的熔点（约2233°C）。适中的密度使得Hf靶材在溅射过程中能够保持稳定的溅射速率和溅射效率，而高熔点则确保了靶材在高温环境下的稳定性和耐久性。这些物理性能共同赋予了Hf靶材在极端条件下工作的能力，满足了高精度、高稳定性镀膜工艺的需求。

3、化学稳定性：Hf铪靶材在多种化学环境中均表现出良好的稳定性，不易与常见气体或溶液发生反应。这种化学稳定性使得Hf靶材在镀膜过程中能够保持其原有的物理和化学性质，避免了因化学反应导致的性能变化或污染问题。

三、行业应用优势

1、科研与高校实验室：在科研和高校实验室中，Hf靶材因其高纯度和优异的性能成为制备高质量薄膜、纳米材料以及进行材料表面改性的理想选择。科研人员可以利用Hf靶材进行各种基础研究和应用开发，探索新材料、新技术和新工艺，推动科技进步和产业升级。

2、工业镀膜：在工业镀膜领域，Hf靶材的应用范围广泛且深入。无论是半导体制造中的栅极材料、光学器件中的反射膜还是太阳能电池中的电极材料，Hf靶材都能凭借其高精度和高稳定性为产品提供卓越的性能保障。特别是在需要高纯度、高均匀性和高附着力的镀膜工艺中，Hf靶材更是不可或缺的关键材料。

3、定制化服务：随着市场需求的多样化和个性化发展，Hf靶材供应商开始提供更加灵活和定制化的服务。不同规格、不同纯度和不同加工方式的Hf靶材应运而生，以满足不同客户在不同应用场景下的特定需求。这种定制化服务不仅提升了Hf靶材的市场竞争力，还促进了其在更广泛领域的应用和发展。

综上所述，Hf铪靶材以其高纯度、良好的物理性能和化学稳定性在科研、高校实验室以及工业镀膜等领域展现出了巨大的应用潜力和价值。随着技术的不断进步和市场需求的持续增长，Hf靶材必将在未来发展中发挥更加重要的作用，为科技进步和产业发展贡献更多力量。

 

Hafnium Oxide (HfO2)二氧化铪靶材，是一种高端且精密的磁控溅射靶材

一、 HfO2，即二氧化铪，是一种由铪元素和氧元素组成的化合物，因其独特的物理化学性质，在多个高科技领域具有广泛的应用价值。以下是对HfO2靶材材料的特性及其在行业中的应用优势的详细阐述。

OXIDES 氧化物
Aluminum Oxide (Al2O3)	Magnesium Oxide (MgO)
Antimony Oxide (Sb2O3)	Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3)
Barium Titanate (BaTiO3)	Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3)
Bismuth Oxide (Bi2O3)	Molybdenum Oxide (MoO3)
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11)	Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4)
Cerium Oxide (CeO2)	Nickel-Cobalt Oxide（NiCoO2）
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4)	Niobium Pentoxide (Nb2O5)
Chromium Oxide (Cr2O3)	Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3
Chromium Oxide (Eu doped)	Rare Earth Oxides (La2O3)
Gallium Oxide (Ga2O3)	Silicon Dioxide (SiO2)
Germanium Oxide (GeO3)	Silicon Monoxide (SiO)
Hafnium Oxide (HfO2)	Tantalum Pentoxide (Ta2O5)
Indium Oxide (In2O3)	Tin Oxide (SnO2)
Indium-Tin Oxide (ITO)	Titanium Dioxide (TiO2)
Iron Oxide (Fe2O3)	Tungsten Oxide (WO3)
Lanthanum Oxide(La2O3)	Yttrium Oxide (Y2O3)
Lead Titanate(PbTiO3)	Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12)
Lead Zirconate (ZrPbO3)	Zinc Oxide (ZnO)
Lithium Niobate (LiNbO3)	Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3)
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2)	Zirconium Oxide (ZrO2)
Lutetium-Iron Oxide (garnet) (Fe2LuO4)

 

二、材料特性解析

首先，从纯度方面来看，HfO2靶材的纯度通常高达99.99%，这为其在高端科技领域的应用提供了坚实的基础。高纯度的靶材能够确保制备出的薄膜具有优异的电学和光学性能，减少因杂质和缺陷导致的性能下降。在半导体、光学和光伏行业中，薄膜的纯度直接关系到产品的性能和可靠性，因此，高纯度的HfO2靶材成为这些领域不可或缺的材料。

其次，密度是材料的一个重要物理性质。HfO2靶材的密度约为9.68g/cm³，这使得它在制备薄膜时能够提供更好的溅射效率和覆盖均匀性。高密度的靶材在溅射过程中能够释放出更多的原子或分子，从而提高薄膜的生长速率和厚度均匀性。此外，密度还影响材料的硬度和耐磨性，使得HfO2靶材在制备耐磨、耐腐蚀薄膜方面具有显著优势。

熔点方面，HfO2靶材的熔点高达2758℃（也有说法认为其某种晶体结构的熔点为2050℃左右），这一特性使其在高温环境下具有出色的稳定性和耐久性。高熔点意味着HfO2靶材能够在极端高温条件下保持结构稳定，不易熔化或变形，这对于制造高温部件、高温传感器等应用至关重要。此外，高熔点还使得HfO2靶材在制备高温薄膜时具有独特的优势，能够在高温下保持薄膜的完整性和性能。

三、行业应用优势

在行业中，HfO2靶材的应用优势主要体现在以下几个方面：

1、半导体行业：HfO2作为一种高介电常数氧化物，在半导体行业中被广泛用作栅介质材料。由于其高介电常数和良好的热稳定性，HfO2靶材能够替代传统的SiO2栅极绝缘层，解决MOSFET等传统器件中SiO2/Si结构的发展尺寸极限问题，提高器件的性能和可靠性。

2、光学行业：HfO2靶材在光学领域的应用主要集中在制备高透光率、高折射率的薄膜上。这些薄膜被广泛应用于LED、太阳能电池等光电器件中，能够显著提高器件的光吸收能力和光电转换效率。此外，HfO2靶材还可用于制备干涉膜、增透膜等光学薄膜，提高光学器件的性能和稳定性。

3、航空航天和化工领域：由于HfO2靶材具有优异的耐高温、耐腐蚀、高硬度等特点，使其在航空航天和化工领域具有广泛的应用前景。在航空航天领域，HfO2靶材可用于制造高温发动机部件、高温涡轮叶片等高温部件；在化工领域，HfO2靶材可用于制造高温反应器、高温催化剂等耐腐蚀设备。

综上所述，HfO2靶材以其高纯度、高密度和高熔点等独特性质，在半导体、光学、航空航天和化工等多个领域展现出广泛的应用优势。随着科技的不断发展，HfO2靶材的应用前景将会更加广阔，为科技进步和产业发展提供有力支撑。