ICP-Etcher System电感耦合式等离子蚀刻机系统:
                 这是一部以单腔制程平台为基础的高密度等离子蚀刻设备系统，可蚀刻的材质依据反应气体的不同，包罗万象，提供高性能、高可靠度蚀刻制程全方位解决方案。将可支援各种介电质材料蚀刻、高深宽比沟渠蚀刻、金属蚀刻及CaN、InP、DBR等化合物半导体蚀刻等应用。包括了SiO2 、SiNx、SiON、SiC、Poly-S、Metal如AL、W、Ti以及三五族化合物材质如，CaAs、CaAlAs/InP/InGaP及InGaN.