镀膜仪（镀碳仪，离子溅射仪，喷金仪）

型号：	EMS150 R
品牌：	EMS
原产地：	美国
类别：	办公、教育 / 教学用具、器材
标签︰	镀膜仪 , 离子溅射仪 , 喷金仪
单价：	-
最少订量：	-

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产品描述

EMS 450型镀碳仪（真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）已经不再供货！

新一代镀膜仪-EMS150R 型镀膜仪（真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）采用最新技术研制而成，彩色触摸液晶屏，快速的参数输入，数种碳丝匹配，友好的用户界面，带给你不一般的操作感受！

提供3个版本的仪器：

EMS150R S – 喷金仪/离子溅射仪（适用于真空喷镀非氧化型金属，如金，铂，钯等）

EMS150R E – 喷碳仪/碳蒸镀仪（适用于真空喷镀碳膜，特别适用于SEM，用碳丝或碳绳）

EMS150R ES –真空镀膜仪（离子溅射仪和碳蒸镀仪的结合体）

EMS150R是一款多功能紧凑型机械泵抽真空镀膜系统，对于SEM样品制备及其它镀膜应用非常理想。直径为165mm的腔室可容纳多种需要镀膜的样品，在SEM应用中提高成像质量。

EMS150R ES这个双重用途、结构紧凑、机械泵抽真空的镀膜系统可提供无与伦比的多用途镀膜,其标配有溅射插入头和碳丝蒸发插入头。快速、易更换的镀膜插入头，能在同一个紧凑设计中实现金属溅射、碳蒸镀和辉光放电三者之间的快速转换。注意，辉光放电选项限EMS150R S和EMS150R ES可用，它可实现样品表面改性（如疏水表面改为亲水表面）。

采用全自动触摸屏控制,可快速输入数据。自动放气控制功能确保了溅射期间最佳的真空状态，可提供良好的一致性和可重复性。

智能识别系统可自动探测安装了何种类型的镀膜插入头，立即运行相应的镀膜方案。可存储多个用户自定义的镀膜方案，这对于需更改镀膜参数实现不同应用的多用户实验室非常理想。多种样品台组件适用于各种尺寸和类型的样品；所有样品台都具有快速、易更换及落入式设计的特点。

可预编程的镀膜参数及方案确保结果一致，具有可重复性。设计先进的碳蒸镀插入头操作简单,具有对蒸发电流参数的完全控制，确保了SEM应用中一致的和可重复的碳沉积。可选的膜厚监控附件用于可重复的膜厚控制。

溅射、碳蒸镀、辉光放电插入头及多种可选件，使EMS150R对于多用户实验室应用非常理想。可溅射一系列非氧化性金属，如金、银、铂和钯等等。碳丝蒸镀插入头处理样品速度非常快。也可选用碳棒蒸发。还可应用于金属薄膜研究及电极的应用。

仪器参数：

仪器尺寸	585mm(W) x 470mm(D) x 410mm(H)
包装尺寸	725mm W x 660mm D x 680mm H (36.8kg)
工作腔室	硼硅酸盐玻璃152mm (内直径)x 127mm H
安全钟罩	聚乙烯对苯二酸，柱形
显示屏	彩色液晶320 x 240
用户界面	直观的图形界面，触摸键。记忆功能：维护提醒及最后十个镀膜方案日志记录
重量	28.4Kg
样品台	直径为50 mm的旋转样品台，上有6个样品座，可配15mm, 10mm, 6.5mm或者3.1mm样本座，转速为8-20rpm
真空泵	Edwards RV3 50L/s两级真空泵，Pirani 真空计
极限真空度	洁净系统可达 2x10-2 mbar，充氮气
喷镀真空范围	3 x 10-2 -5 x 10-1mbar
安培计	碳绳：0-60 Amps，1.4mm Ø碳棒：1-90 Amps

溅射靶材或碳蒸发源的选用：

金：常规SEM应用时使用最普遍的靶材；溅射速度快且导电效果最好。

银：高导电性且具有高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品成像后还原到其原来状态。

铂：在机械泵抽真空的溅射镀膜系统中它的颗粒尺寸最小，且具有优良的二次电子发射能力。

钯：用于x射线能谱分析非常理想，因其谱线分布冲突相对较低。

金/钯合金（80:20%）：通过限制沉积期间金颗粒的团聚，钯可提高最终分辨率。

碳丝蒸镀：碳丝蒸镀过程的闪蒸特性及快速更换碳丝的能力，使其处理样品速度非常快。

碳棒蒸发：用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程，可制备更趋向无定形的碳膜。

EMS150R S：

货号	产品名称	规格
4500	EMS150R S Rotary pumped sputter coater, includes an 57mm Ø x 0.1mm gold target	1
4501	Quick-release sputter insert for EMS150R S and EMS150R ES – suitable for non-oxidising (noble) metals. Supplied with A 57mm Ø x 0.1mm thick gold target as standard. For additional noble metal targets (eg Platinum, Gold / Palladium, Silver) see Sputtering Targets section	1
4502	Rotation stage, 50mm Ø with adjustable height for target to sample distances of 38mm-79mm (supplied with 2 mounting pillars). Note: this stage does not tilt – for tilting stage see Specimen Stages section	1

EMS150R E：

货号	产品名称	规格
4503	EMS150R E Rotary pumped carbon fibre evaporator, supplied with carbon fibre / cord	1
4504	Quick-release carbon fibre evaporation insert for EMS150R E and EMS150R ES – suitable for evaporation of carbon fibre and carbon cord	1
4506	Rotation stage, 50mm Ø with adjustable height for target to sample distances of 38mm-79mm (supplied with 2 mounting pillars). Note: this stage does not tilt – for tilting stage see Specimen Stages section

EMS150R ES：

货号	产品名称	规格
4507	EMS150R ES Rotary pumped sputter coater, includes an 57mm Ø x 0.1mm gold target, and carbon fibre evaporator, supplied with carbon fibre / cord	Each
4508	Quick-release sputter insert for EMS150R S and EMS150R ES – suitable for non-oxidising (noble) metals. Supplied 57mm Ø x 0.1mm thick gold target as standard. For additional noble metal targets (eg Platinum, Gold / Palladium, Silver) see Sputtering Targets section	Each
4509	Quick-release carbon fibre evaporation insert for EMS150R E and EMS150R ES – suitable for evaporation of carbon fibre and carbon cord	Each
4510	Rotation stage, 50mm Ø with adjustable height for target to sample distances of 38mm-79mm (supplied with 2 mounting pillars). Note: this stage does not tilt – for tilting stage see Specimen Stages section	Each