一、擴散爐簡介
擴散爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用於大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。
 
二、設備特點
◆軟着陸載片裝置
軟着陸送料裝置，避免了SiC槳的遮擋影響，提高了擴散均勻性，同時槳的清洗週期大幅度延長。
◆高精度溫度控制
新型爐體設計，提高了溫度穩定性；配合高精度溫控儀的使用，保証工藝過程中溫度的快速穩定。
◆高性能進口元器件組合
關鍵件採用進口管件，且為半導體級別；優質的元器件組合，從而保証成膜質量。
         
三、主要技術參數                              
◆工藝管數量：1-4管
◆工藝管口徑：Φ90-360mm（3～12英吋）
◆結構型式：臥式熱壁型、立式或其他形式，可根據客戶需求定製
◆工作溫度範圍：400～1280℃
◆恆溫區長度及精度±0.5℃/1080mm
◆工藝均勻性:≤±5％（30~60歐姆）
◆氣體流量設定精度:±1％F.S
◆氣路系統氣密性： 1×10-7pa.m3/s
◆超淨工作台：淨化等級：100級（萬級廠房）
                      噪音：≤62dB（A）
                     震動：≤3μm
◆控制方式： 工業微機控制
◆記錄工藝曲線數量及工藝步數不受限制

北京晶伏華控電子設備有限公司可根據客戶需求定製各種非標： 擴散爐、真空擴散爐、熱處理擴散爐、程控擴散爐、微控擴散爐、太陽能擴散爐、立式擴散爐、單管擴散爐、雙管擴散爐、三管擴散爐、擴散爐控制系統、擴散爐多台監控系統、焊接爐、硒化爐、氣氛爐、烤盤爐、焊接爐、真空爐、昇華爐、隧道爐、氧化爐、退火爐、LPCVD爐、氫氣爐、工業爐體 等各種工業、實驗電爐等高溫設備。專業團隊個性化定做，廠家直接供貨，歡迎廣大客戶來電來函。