烤盤爐處理前

烤盤爐處理后

一、BAKE烤盤爐簡介
BAKE爐、BAKE烤盤爐、MOCVD真空烤盤爐、真空烤盤爐為 LED 製造行業的一種新型的真空設備，與 MOCVD 設備配套使用，爐內抽真空，被處理工件放置在爐膛內，採用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗（清洗氣體：N2，HCL)。主要用於有效清除 MOCVD 承受器（SiC 塗層石 墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達到有效清潔處理，提高制品質量的目的。

二、BAKE烤盤爐用途
北京晶伏華控電子設備有限公司生產的烤盤爐、真空烤盤爐、MOCVD烤盤爐、CVD烤盤爐主要應用於LED行業MOCVD石墨盤的真空烘烤工藝。

三、BAKE烤盤爐主要技術參數
1、外型形式：臥式單管
2、最高工作溫度：1300℃
3、加熱爐管有效口徑：Φ340mm
4、石英管有效口徑：Φ300mm
5、等溫區長度：800mm
6、控溫儀表：原裝進口日本理化RKC FB400高精度控溫儀
7、等溫區精度：600℃--1300℃ ±1℃/800mm   
8、單點溫度穩定性：600℃--1300℃ ±1℃
9、最大可控升溫速度：15℃/min
10、最大升溫功率：34KW/管
11、保溫功率：17KW/管
12、氣路系統：每管氮氣、氯化氫兩路工藝氣體 ,帶混氣罐
13、流量計：MFC+浮子流量計
14、氣路管件：進口原裝，長期使用不生鏽
15、氣路系統氣密性：1×10-10 Pa·M3/S
16、控制系統：RKC高精度控制器+PLC+觸摸屏方式，自動控制整個工藝流程
17、電源：三相五線380V、50Hz

北京晶伏華控電子設備有限公司可根據客戶需求專業定製各種 真空爐、烤盤爐 、BAKE爐、BAKE烤盤爐、真空 烤盤爐、CVD烤盤爐、MOCVD烤盤爐、擴散爐、退火爐、合金爐、交換爐、焊接爐、IGBT焊接爐、氧化爐、氣氛爐、昇華爐、氫氣爐、氣氛爐、CVD爐及工業電爐專用爐體 等各種工業、實驗室用熱處理設備。