一、 立式擴散爐用途
JFHK系列立式擴散爐為我公司根據客戶需求定製的立式微控太陽能電池專用設備，用於太陽能電池片生產過程中對硅片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，該設備具有：關鍵部件進口、自動化程度高、溫度均勻、控制穩定、壽命長等特點，是理想的科研及生產設備，目前廣氾應用於全國各大科研院所及相關企業。

二、 立式擴散爐主要技術指標
1、外型形式：單管立式
2、硅片尺寸：156*156方片
4、最高工作溫度：1200℃
5、工藝管：優質氣煉石英管
6、石英舟：兩套立式石英舟
7、恆溫區長度：300mm，單次可裝載25片156*156方形硅片，背靠背裝片模式
8、恆溫區精度：±0.5℃ /300mm
9、單點溫度穩定性、重複性：±0.5℃ /300mm
10、加熱器：可移動式加熱器，加熱器及石英管可自動昇降
11、送取片方式：手動送取片
12、擴散方式：設備配置真空系統，支持負壓擴散方式
13、溫度控制：日本原裝 RKC 控溫儀，三段控溫方式
14、熱偶：spike + profile 雙熱偶控溫方式
15、加熱元件：瑞典康泰爾電阻絲
16、氣路：N 2 、O 2 、H 2 三路氣體，氣路管道為316L 耐腐蝕內拋光不鏽鋼管。
17、流量計：進口 MKS 質量流量計
18、氣路系統密封性：1×10-7 Pa·M3 /S
19、真空系統：旋片真空泵
20、極限真空度：1.0*10-1 Pa
21、壓升率：≤0.7Pa/h
22、真空計：德國 INFICON 品牌
23、控制系統：PLC+觸摸屏控制方式，自動/手動切換方便，溫度、流量按工藝自動調節
24、報警及保護：系統設有超溫報警及保護、斷偶報警及保護、真空系統閥門互鎖保護、缺水報警及保護
25、尾氣處理：設備配備尾氣處理系統，採用溶液吸收法吸收尾氣中的有害成分
26、冷水系統：設備配備冷水系統，用於保護密封裝置及冷卻加熱器外殼

北京晶伏華控電子設備有限公司 可根據客戶需求 定製 各種： 非標 立式爐、臥式爐、鏈式爐、 管式爐、高溫爐、擴散爐、焊接爐、硒化爐、氣氛爐、烤盤爐、擴散爐控制系統、真空爐、昇華爐、隧道爐、氧化爐、退火爐、LPCVD爐、氫氣爐、工業爐體等各種工業電爐、實驗電爐等高溫設備 。 專業團隊 個性化定做 ，廠家直接供貨，歡迎廣大客戶來電來函。