深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材，磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，2013年的蒸發鍍膜方式，其很多方面的優勢相當明顯。作為一項已經發展的較為成熟的技術，磁控濺射已經被應用於許多領域。

深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材，濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體並沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面塗層等方面都得到了廣氾的應用。

深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售的靶材不斷隨着行業發展，研發升級。各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路 (VLSI) 、光碟、平面顯示器以及工件的表面塗層等 方面都得到了廣氾的應用。20世紀90年代 以來，濺射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新型電子元器件發展的需求。例如，在半導體集成電路製造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁 膜布線：在平面顯示器產業中，各種顯示技術 (如LCD、PDP 、OLED及FED等)的同步發展，有的已 經用於電腦及計算機的顯示器製造；在信息存儲產業中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質量提 出了越來越高的要求，需求數量也逐年增加。