光氧除臭裝置適用範圍：煉油廠、橡膠廠、化工廠、傢具廠、製藥廠、污水處理廠、垃圾轉運站等惡臭氣體的脫臭淨化處理。

光氧除臭裝置採用高能高臭氧UV紫外線光束、氧化反應催化劑、高能離子發生裝 置的組合工藝來降解有機廢氣，改變惡臭、刺激型氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，通過高能紫外線光束照射、催化劑的氧化反應、正氧離子的氧化反應，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

光氧除臭裝置技能介紹：

一、高效降解有機化學物：能高效去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99.9%。

以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）。

二、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使氣體通過本設備進行脫臭分解淨化，無需添加任何物質參與化學反應。

三、適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同有機化學氣體物質的淨化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。

四、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.1度電能），設備風阻極低＜30pa,可節約大量排風動力能耗。

五、無需預處理：廢氣無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等,

設備工作環境溫度在攝氏-30o－95o之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。

六、設備佔地面積小，自重輕：適合於佈置緊湊、場地狹小等特殊條件。