井式/立式真空爐主要用於半導體器件燒結、封焊，太陽能電池片烘乾、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結及各種零件在氫氮保護下進行的工藝 。
井式真空爐主要技術參數 
真空室工位數：1-3位 
真空度：1Pa，加擴散泵為5x10-3Pa
工作溫度：<1000℃ 
充氣的最高壓強：0.3Mpa（可控） 
不鏽鋼內膽：Φ150-Φ350x1300mm(用戶自定) 
恆溫區：600-1200mm±1℃ 
控溫方式：三點三段採用原裝進口高精度控溫儀
控溫曲線：9段昇降溫/999小時 
工作方式：自動或手動自由轉換 
單點精度：±1℃/24h 
正壓、負壓均採用數字顯示表 
可多工位同時工作