高純金屬Cr鉻靶材 磁控濺射 PVD真空鍍膜靶材 顆粒 純度99.99%  科研實驗材料 尺寸定製 背板綁定服務

 

鉻靶材，作為一種利用鉻（Cr）元素製成的目標材料，在物理蒸發和濺射過程中扮演着至關重要的角色。其獨特的物理與化學特性，如高熔點、良好的電導率和耐腐蝕性，使其成為薄膜沉積領域的理想選擇。本文將詳細介紹鉻靶材的基本特性、純度、密度、熔點、化學成份等物理性能，並探討其在各行業中的應用優勢。我司專注研發與生產，鑄就行業精品。公司生產單材質靶材、電子束蒸發顆粒材料如下：

SINGLE ELEMENTS 單材質靶材、電子束蒸發顆粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

 

基本介紹

鉻靶材是一種鋼灰色、有光澤、堅硬且脆性的過渡金屬。在真空中，鉻靶材可以產生相對穩定的鉻離子束，這一特性使其適用於製作襯底或表面塗層，用以保護基材或製作一些特別需要高氧化抗性的工業零件。鉻靶材的形狀多樣，包括平面靶和異型定製靶，以滿足不同應用的需求。其純度通常可以達到2N5、3N甚至3N5，確保了高純度的薄膜沉積。

1、物理性能

純度：鉻靶材的純度是衡量其質量的重要指標。高純度意味着更少的雜質，從而能夠提高薄膜的電導率和光學性能。通常，鉻靶材的純度可以達到99.95%或更高，確保了薄膜沉積的高質量和穩定性。

密度：密度是指鉻靶材的質量與體積的比值。接近理論密度的鉻靶材能夠保証更高的濺射效率和薄膜均勻性。理想的鉻靶材應接近或達到鉻的理論密度（約7.19 g/cm³），以確保最佳的濺射效果。

熔點：鉻的熔點高達1907℃，這一特性使得鉻靶材在高溫環境下表現出極佳的穩定性和耐用性。特別適用於需要高溫加工的材料制備過程，如半導體製造中的薄膜沉積。

其他物理性能：鉻靶材還具有良好的導熱性和顯著的硬度，這些特性使得其在高溫和高壓環境下仍能保持穩定。此外，鉻靶材的晶粒大小通常在微米級別，細小的晶粒有助于形成平滑且均勻的薄膜，對提高薄膜的機械性能和耐腐蝕性有重要影響。

2、化學成份與化學性能

鉻靶材的主要成分是鉻（Cr），一般含量在95%以上。鉻是一種銀灰色的金屬元素，具有良好的耐腐蝕性和耐磨性。在鍍膜過程中，鉻可以提供良好的導電性和較高的反射率。除了鉻之外，鉻靶材中還可能含有微量的其他元素，如鎳（Ni）、銅（Cu）、鈦（Ti）等，這些元素的存在可以進一步改善靶材的性能。

鉻靶材具有良好的抗氧化性和耐腐蝕性，能夠在自然環境下形成一層穩定的氧化膜保護金屬不被進一步腐蝕。這一特性使鉻靶材成為製造防護塗層和腐蝕性環境中使用的薄膜材料的理想選擇。

3、行業應用優勢

半導體製造：在半導體製造過程中，鉻靶材被廣氾用於沉積薄膜，用於製作微電子設備的導電路徑和連接。通過優化電路的導電性和穩定性，顯著提高了半導體器件的整體性能。此外，鉻薄膜的高耐熱性和優良的化學穩定性也極大地增強了半導體產品的可靠性和耐久性。

太陽能電池板製造：在太陽能電池板的生產中，鉻靶材通過提高電池的光吸收率和減少表面反射率，進而提升太陽能轉換效率。這對於增加太陽能電池板的發電量、降低能源成本具有重要意義。

汽車工業：鉻靶材在汽車工業中也有廣氾的應用。為了在車輪和保險杠上形成光亮的塗層，鉻靶是很好的材料。此外，鉻靶材還可以用於汽車玻璃的塗層處理，提供額外的防腐蝕保護並增強產品的耐用性。

其他工業應用：鉻靶材還被廣氾應用於電子元件、顯示器、工具等的物理沉積薄膜和功能塗層制備中。在光伏電池製造、電池製造以及化工、造船、航空、核反應堆等行業中也發揮着重要作用。

綜上所述，鉻靶材作為一種高性能的磁控濺射靶材材料，憑借其獨特的物理與化學特性以及廣氾的應用優勢，在薄膜沉積領域具有不可替代的地位。隨着科技的不斷髮展，鉻靶材的應用領域還將不斷拓展，為各行各業提供更加優質、高效的解決方案。

 

 

Hf鉿靶材，是一種高端且精密的磁控濺射靶材

 

一、Hf鉿靶材，作為一種高端且精密的磁控濺射靶材，在現代科研、高等教育實驗室以及工業鍍膜技術中佔據着舉足輕重的地位。其獨特的材料特性——高純度、優異的物理性能以及卓越的化學穩定性，共同構筑了Hf靶材在多個領域廣氾應用的基礎。我司專注研發與生產，鑄就行業精品。公司生產單材質靶材、電子束蒸發顆粒材料如下：

SINGLE ELEMENTS 單材質靶材、電子束蒸發顆粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

 

二、材料特性解析

1、高純度：Hf鉿靶材的純度是其核心價值所在。市場上高品質的Hf靶材往往能達到99.95%甚至更高的純度標準，這意味着在制備過程中幾乎去除了所有雜質元素，從而確保了濺射過程中產生的Hf離子束的純淨度。高純度不僅提升了鍍膜或薄膜的均勻性和一致性，還減少了因雜質引起的性能下降或缺陷，為科研和工業應用提供了可靠保障。

2、良好的物理性能：Hf鉿作為一種過渡金屬，具有適中的密度和較高的熔點（約2233°C）。適中的密度使得Hf靶材在濺射過程中能夠保持穩定的濺射速率和濺射效率，而高熔點則確保了靶材在高溫環境下的穩定性和耐久性。這些物理性能共同賦予了Hf靶材在極端條件下工作的能力，滿足了高精度、高穩定性鍍膜工藝的需求。

3、化學穩定性：Hf鉿靶材在多種化學環境中均表現出良好的穩定性，不易與常見氣體或溶液發生反應。這種化學穩定性使得Hf靶材在鍍膜過程中能夠保持其原有的物理和化學性質，避免了因化學反應導致的性能變化或污染問題。

三、行業應用優勢

1、科研與高校實驗室：在科研和高校實驗室中，Hf靶材因其高純度和優異的性能成為制備高質量薄膜、納米材料以及進行材料表面改性的理想選擇。科研人員可以利用Hf靶材進行各種基礎研究和應用開發，探索新材料、新技術和新工藝，推動科技進步和產業升級。

2、工業鍍膜：在工業鍍膜領域，Hf靶材的應用範圍廣氾且深入。無論是半導體製造中的柵極材料、光學器件中的反射膜還是太陽能電池中的電極材料，Hf靶材都能憑借其高精度和高穩定性為產品提供卓越的性能保障。特別是在需要高純度、高均勻性和高附着力的鍍膜工藝中，Hf靶材更是不可或缺的關鍵材料。

3、定製化服務：隨着市場需求的多樣化和個性化發展，Hf靶材供應商開始提供更加靈活和定製化的服務。不同規格、不同純度和不同加工方式的Hf靶材應運而生，以滿足不同客戶在不同應用場景下的特定需求。這種定製化服務不僅提升了Hf靶材的市場競爭力，還促進了其在更廣氾領域的應用和發展。

綜上所述，Hf鉿靶材以其高純度、良好的物理性能和化學穩定性在科研、高校實驗室以及工業鍍膜等領域展現出了巨大的應用潛力和價值。隨着技術的不斷進步和市場需求的持續增長，Hf靶材必將在未來發展中發揮更加重要的作用，為科技進步和產業發展貢獻更多力量。

 

Hafnium Oxide (HfO2)二氧化鉿靶材，是一種高端且精密的磁控濺射靶材

一、 HfO2，即二氧化鉿，是一種由鉿元素和氧元素組成的化合物，因其獨特的物理化學性質，在多個高科技領域具有廣氾的應用價值。以下是對HfO2靶材材料的特性及其在行業中的應用優勢的詳細闡述。

OXIDES 氧化物
Aluminum Oxide (Al2O3)	Magnesium Oxide (MgO)
Antimony Oxide (Sb2O3)	Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3)
Barium Titanate (BaTiO3)	Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3)
Bismuth Oxide (Bi2O3)	Molybdenum Oxide (MoO3)
Bismuth Titanate (Bi2Ti4O11)	Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4)
Cerium Oxide (CeO2)	Nickel-Cobalt Oxide（NiCoO2）
Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4)	Niobium Pentoxide (Nb2O5)
Chromium Oxide (Cr2O3)	Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3
Chromium Oxide (Eu doped)	Rare Earth Oxides (La2O3)
Gallium Oxide (Ga2O3)	Silicon Dioxide (SiO2)
Germanium Oxide (GeO3)	Silicon Monoxide (SiO)
Hafnium Oxide (HfO2)	Tantalum Pentoxide (Ta2O5)
Indium Oxide (In2O3)	Tin Oxide (SnO2)
Indium-Tin Oxide (ITO)	Titanium Dioxide (TiO2)
Iron Oxide (Fe2O3)	Tungsten Oxide (WO3)
Lanthanum Oxide(La2O3)	Yttrium Oxide (Y2O3)
Lead Titanate(PbTiO3)	Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12)
Lead Zirconate (ZrPbO3)	Zinc Oxide (ZnO)
Lithium Niobate (LiNbO3)	Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3)
Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2)	Zirconium Oxide (ZrO2)
Lutetium-Iron Oxide (garnet) (Fe2LuO4)

 

二、材料特性解析

首先，從純度方面來看，HfO2靶材的純度通常高達99.99%，這為其在高端科技領域的應用提供了堅實的基礎。高純度的靶材能夠確保制備出的薄膜具有優異的電學和光學性能，減少因雜質和缺陷導致的性能下降。在半導體、光學和光伏行業中，薄膜的純度直接關係到產品的性能和可靠性，因此，高純度的HfO2靶材成為這些領域不可或缺的材料。

其次，密度是材料的一個重要物理性質。HfO2靶材的密度約為9.68g/cm³，這使得它在制備薄膜時能夠提供更好的濺射效率和覆蓋均勻性。高密度的靶材在濺射過程中能夠釋放出更多的原子或分子，從而提高薄膜的生長速率和厚度均勻性。此外，密度還影響材料的硬度和耐磨性，使得HfO2靶材在制備耐磨、耐腐蝕薄膜方面具有顯著優勢。

熔點方面，HfO2靶材的熔點高達2758℃（也有說法認為其某種晶體結構的熔點為2050℃左右），這一特性使其在高溫環境下具有出色的穩定性和耐久性。高熔點意味着HfO2靶材能夠在極端高溫條件下保持結構穩定，不易熔化或變形，這對於製造高溫部件、高溫傳感器等應用至關重要。此外，高熔點還使得HfO2靶材在制備高溫薄膜時具有獨特的優勢，能夠在高溫下保持薄膜的完整性和性能。

三、行業應用優勢

在行業中，HfO2靶材的應用優勢主要體現在以下幾個方面：

1、半導體行業：HfO2作為一種高介電常數氧化物，在半導體行業中被廣氾用作柵介質材料。由於其高介電常數和良好的熱穩定性，HfO2靶材能夠替代傳統的SiO2柵極絕緣層，解決MOSFET等傳統器件中SiO2/Si結構的發展尺寸極限問題，提高器件的性能和可靠性。

2、光學行業：HfO2靶材在光學領域的應用主要集中在制備高透光率、高折射率的薄膜上。這些薄膜被廣氾應用於LED、太陽能電池等光電器件中，能夠顯著提高器件的光吸收能力和光電轉換效率。此外，HfO2靶材還可用於制備干涉膜、增透膜等光學薄膜，提高光學器件的性能和穩定性。

3、航空航天和化工領域：由於HfO2靶材具有優異的耐高溫、耐腐蝕、高硬度等特點，使其在航空航天和化工領域具有廣氾的應用前景。在航空航天領域，HfO2靶材可用於製造高溫發動機部件、高溫渦輪葉片等高溫部件；在化工領域，HfO2靶材可用於製造高溫反應器、高溫催化劑等耐腐蝕設備。

綜上所述，HfO2靶材以其高純度、高密度和高熔點等獨特性質，在半導體、光學、航空航天和化工等多個領域展現出廣氾的應用優勢。隨着科技的不斷髮展，HfO2靶材的應用前景將會更加廣闊，為科技進步和產業發展提供有力支撐。