產品名稱：	銥靶、鉑靶、鈀靶、銀靶、銠靶
牌號規格：	Ir1、Pt1、Pd1、Ag1、Rh1
用途 ：	主要用於磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等領域。

 

產 品 詳 情

隨着靶材在磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等產業的發展，我們加大在稀貴金屬靶材研發和制備方面的投入力度，通過原料控制、真空感應熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結、熱等靜壓、放電等離子體燒結等不同工藝, 並採用嚴格的質量控制過程，我們能夠制備多種靶材並能一直保持着批量供貨。

另外我們為客戶提供銅背板與銥靶材的綁定服務技術（Bonding），由純銦作為中間的焊接材料使用銅底板與靶材緊密的結合，有利於靶材表面溫度的快速散掉，提高靶材的使用率。

 

銥濺射靶材Iridium (Ir)

    規格尺寸：

形狀	圓形、方形
尺寸	Φ50~170mm
厚度	3~15mm
純度	≥3N5

注：具體尺寸請聯繫銷售。

 

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銥靶材（Ir）Iridium

 

一：高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材（Ir），即銥靶，作為一種卓越的高科技材料，以其獨特的物理和化學性質，在多個行業中展現出無可比擬的應用優勢。銥靶材以其高純度著稱，通常純度可達99.99%甚至更高，這意味着它幾乎不含有任何雜質，從而確保了電流傳遞的高效性和穩定性。這種高純度特性使得銥靶材在電子束蒸發、濺射鍍膜等高科技領域成為不可或缺的關鍵材料。

我司深耕靶材領域十年，專注研發與生產，鑄就行業精品。所生產單材質靶材如下：

SINGLE ELEMENTS 單材質靶材、電子束蒸發顆粒
Aluminum (Al)	Nickel (Ni)
Antimony (Sb)	Niobium (Nb)
Arsenic (As)	Osmium (Os)
Barium (Ba)	Palladium (Pd)
Beryllium (Be)	Platinum (Pt)
Boron (B)	Rhenium (Re)
Cadmium (Cd)	Rhodium (Rh)
Carbon (C)	Rubidium (Rb)
Chromium (Cr)	Ruthenium (Ru)
Cobalt (Co)	Selenium (Se)
Copper (Cu)	Silicon (Si)
Gallium (Ga)	Silver (Ag)
Germanium (Ge)	Tantalum (Ta)
Gold (Au)	Tellurium (Te)
Hafnium (Hf)	Tin (Sn)
Indium (In)	Titanium (Ti)
Iridium (Ir)	Tungsten (W)
Iron (Fe)	Vanadium (V)
Lead (Pb)	Yttrium (Y)
Magnesium (Mg)	Zinc (Zn)
Manganese (Mn)	Zirconium (Zr)
Molybdenum (Mo)

 

• 特性概述：

1、在物理性質方面，銥靶材展現出極高的熔點，高達2454℃，遠超大多數金屬。這一特性使得銥靶材在高溫環境下仍能保持優良的物理和化學穩定性，成為許多極端條件下工作的理想選擇。此外，銥靶材的密度達到22.56 g/cm³，具有較高的抗拉強度和硬度，進一步增強了其在各種應用中的穩定性和耐久性。

2、在導熱性能方面，銥靶材同樣表現出色。其高效的熱量傳遞能力和出色的熱穩定性，使得在高溫條件下，銥靶材能夠保持較低的熱阻，確保熱量快速而均勻地傳遞，有效防止了熱量的積累和散失。這一特性在電子、航空、核能等領域的應用中尤為關鍵，為設備的穩定運行提供了有力保障。

三、行業應用優勢：

銥靶材在行業中的應用優勢顯著。在科研領域，銥靶材被廣氾應用於製作科學儀器、熱電偶、電阻線等，其高純度和穩定的物理性能為科研實驗提供了高質量的薄膜材料。在燃料電池和光伏器件領域，銥靶材的優良導電性和耐腐蝕性使其成為這些領域的理想材料，有效提升了設備的性能和壽命。此外，銥靶材還廣氾應用於高溫裝置、觸點材料等工業領域，其高熔點和耐腐蝕特性使得在極端工作條件下仍能保持穩定的性能。

總的來說，高純貴金屬磁控濺射鍍膜銥靶材以其高純度、高熔點、優異的導熱性能和穩定的化學性質，在多個行業中展現出廣氾的應用前景和不可替代的優勢。隨着科技的不斷髮展，銥靶材的應用領域還將不斷拓展，為更多高科技產品的研發和生產提供有力支持。

 

二、金屬鈀(Pd) 
 

高純度磁控濺射貴金屬鈀(Pd)鍍膜靶材及鉑合金，鈀粒，鈀板，科研院校首選

 

高純貴金屬鈀(Pd)  科研實驗材料  濺射鍍膜 蒸發鍍膜 半導體 純度99.999%  尺寸可定製 提供背板綁定服務

 

貴金屬靶產品總述：

    隨着靶材在磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等產業的發展，我們加大在稀貴金屬靶材研發和制備方面的投入力度，通過原料控制、真空感應熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結、熱等靜壓、放電等離子體燒結等不同工藝, 並採用嚴格的質量控制過程，我們能夠制備多種靶材並能一直保持着批量供貨。

 

稀貴重金屬名稱：	鉑靶、鈀靶、銀靶、銥靶、銠靶
牌號規格：	Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1
用途 ：	主要用於磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等領域。

 

 

 

貴金屬磁控濺射沉積鍍膜鈀靶材Palladium (Pd) Targets

規格尺寸：

形狀	圓形、方形
尺寸	按客戶要求定製加工
厚度	按客戶要求定製
純度	≥4N

注：具體尺寸請聯繫銷售。

三、金屬銠

貴金屬銠（Rhodium, Rh）

 

• 高純貴金屬銠（Rhodium, Rh）濺射靶材、銠環及銠顆粒作為蒸發鍍膜材料，以其卓越的物理特性和廣氾的應用優勢，在高科技產業中佔據着重要地位。

PRECIOUS METALS   稀貴金屬材料、電子束蒸發顆粒
Gold (Au)	Palladium (Pd)
Silver (Ag)	Platinum (Pt)
Gold Arsenic (AuAs)	Rhenium (Re)
Gold Tin (AuSn)	Rhodium (Rh)
Iridium (Ir)	Ruthenium (Ru)
Osmium (Os)

我司深耕靶材領域十年，專注研發與生產，鑄就行業精品。所生產稀貴金屬材料如下：

 

• 材料特性：

1、高純銠濺射靶材的純度通常達到99.95%以上，甚至可達99.999%的極高純度，這意味着其雜質含量極低，能夠確保鍍膜過程的純淨性和最終產品的卓越性能。銠的密度為12.41g/cm³，這使得銠靶材在濺射過程中能夠穩定地釋放原子，形成緻密且均勻的薄膜。此外，銠的熔點高達1966°C，沸點更是達到3695°C至3727°C之間，這一特性賦予了銠靶材在高溫環境下的卓越穩定性和耐腐蝕性，為高溫鍍膜工藝提供了堅實保障。

2、銠環和銠顆粒作為蒸發鍍膜材料，同樣具備高純度和優異的物理性能。它們能夠在蒸發過程中均勻且穩定地釋放銠原子，形成高質量的薄膜，滿足高精度、高要求的鍍膜需求。銠的高反射率和良好的導電性，使得其在光學和電子領域具有廣氾的應用潛力。

三、行業應用：

1、高純銠濺射靶材、銠環及銠顆粒蒸發鍍膜材料展現出了顯著的優勢。在電子工業中，銠靶材被廣氾應用於制備高精度電阻、傳感器以及高頻電子設備的關鍵部件。其高純度和穩定性確保了電子元件的高精度和長壽命。同時，銠的高反射率也使其成為製作高反射率反射鏡和光學元件的理想材料。

2、在鍍膜行業中，銠環和銠顆粒蒸發鍍膜材料被用於制備高性能的鍍膜層，如汽車玻璃、建築玻璃以及光學信息存儲介質等。銠鍍層不僅色澤堅固、不易磨損，而且反光效果好，能夠顯著提升產品的外觀和性能。此外，銠鍍層還具有良好的耐腐蝕性和化學穩定性，能夠在惡劣環境下保持長久的性能。

3、銠靶材還在化工生產中發揮着重要作用。它可以用於制備催化劑，如銠基氧化物催化劑，在有機合成和石油化工反應中展現出優異的催化性能。這些催化劑能夠加速反應速率、提高產率和選擇性，為化工行業的發展提供了有力支持。

綜上所述，高純貴金屬銠濺射靶材、銠環及銠顆粒蒸發鍍膜材料以其卓越的物理特性和廣氾的應用優勢，在高科技產業中發揮着重要作用。隨着技術的不斷進步和應用領域的不斷拓展，這些材料將繼續為提升產品質量、推動產業升級貢獻重要力量。

四、
 

高純貴金屬鉑(Pt)濺射真空鍍膜鉑靶材及鉑合金管坩鍋蒸發鍍膜顆粒，科研高純度濺射材料

 

貴金屬靶產品總述：

隨着靶材在磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等產業的發展，我們加大在稀貴金屬靶材研發和制備方面的投入力度，通過原料控制、真空感應熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結、熱等靜壓、放電等離子體燒結等不同工藝, 並採用嚴格的質量控制過程，我們能夠制備多種靶材並能一直保持着批量供貨。

 

稀貴重金屬名稱：鉑靶、鈀靶、銀靶、銥靶、銠靶

牌號規格：Pt1、Pd1、Ag1、Ir1、Rh1

用途：主要用於磁記錄介質、電子半導體、薄膜太陽能及平面顯示等領域。

 

產 品 詳 情:  該材料主要用於儀器、儀表導電環及其他用途，如電容式變送器輸油管等。

產品名稱：高純鉑Platinum (Pt)濺射靶材及鉑合金管材鉑坩堝

牌號規格：Pt1、Pt2、PtRh10

用途備註：還應用於儀器、儀表導電環及其他用途，如電容式變送器輸油管等

 

序  號	合金牌號	熔  點℃	密  度g/cm3	電 阻 率μΩ.cm	維氏硬度（不小於）
1	Pt1、Pt2	1769	21.4	9.9	110
2	PtIr10	1780	21.5	24	160

 

 

鉑濺射靶材 (Platinum-Pt)，鉑坩堝器皿

規格尺寸：

形狀	圓形、方形、坩鍋
尺寸	按客戶要求定製加工
厚度	按客戶要求定製
純度	≥4N

注：具體尺寸請聯繫銷售。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

貴金屬鉑Platinum (Pt)

• 高純貴金屬鉑Platinum (Pt)濺射鍍膜靶材及鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料，作為現代高科技產業中的關鍵材料，以其卓越的物理特性和廣氾的應用優勢，在多個領域發揮着不可替代的作用。

PRECIOUS METALS   稀貴金屬材料、電子束蒸發顆粒
Gold (Au)	Palladium (Pd)
Silver (Ag)	Platinum (Pt)
Gold Arsenic (AuAs)	Rhenium (Re)
Gold Tin (AuSn)	Rhodium (Rh)
Iridium (Ir)	Ruthenium (Ru)
Osmium (Os)

我司深耕靶材領域十年，專注研發與生產，鑄就行業精品。所生產稀貴金屬材料如下：

 

 

 

• 材料特性：

1、首先，從材料特性來看，高純鉑靶材的純度通常達到99.99%以上（即4N或更高），甚至可達99.999%（5N），這意味着其雜質含量極低，確保了鍍膜過程的純淨性和最終產品的卓越性能。鉑的密度為21.45g/cm³，使得鉑靶材在濺射過程中能夠穩定地釋放原子，形成緻密且均勻的薄膜。同時，鉑的熔點和沸點分別高達1773℃和3827℃，這一特性賦予了鉑靶材在高溫環境下的卓越穩定性和耐腐蝕性，為高溫鍍膜工藝提供了堅實保障。

2、鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料則結合了鉑的優異性能與合金的多元特性，通過調整合金成分，可以進一步優化材料的物理和化學性能，滿足特定應用需求。這些顆粒材料在蒸發鍍膜過程中，能夠均勻且穩定地蒸發，形成高質量的薄膜，提升產品的整體性能。

三、在行業應用：

1、高純鉑靶材及鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料展現出了廣氾的應用優勢。在太陽能電池領域，鉑靶材被用於制備高效電極，其高導電性和化學穩定性確保了電池的高效穩定運行。在平板顯示器製造中，鉑靶材則用於製作透明導電膜，提高了顯示器的對比度和色彩準確性。此外，鉑靶材還廣氾應用於金屬有機物化學氣相沉積（MOCVD）等領域，為制備高質量薄膜和塗層提供了重要支持。

2、鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料在蒸發鍍膜工藝中同樣表現出色。它們不僅具有鉑的高熔點和耐腐蝕性，還通過合金化提高了材料的機械性能和加工性能。這使得鉑合金管坩堝能夠在高溫、高真空環境下穩定工作，為蒸發鍍膜過程提供可靠的容器支持。同時，鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料還具有良好的蒸發性能和成膜質量，能夠滿足高精度、高要求的鍍膜需求。

綜上所述，高純貴金屬鉑濺射鍍膜靶材及鉑合金管坩堝蒸發鍍膜顆粒材料以其卓越的物理特性和廣氾的應用優勢，在高科技產業中發揮着重要作用。隨着技術的不斷進步和應用領域的不斷拓展，這些材料將繼續為提升產品質量、推動產業升級貢獻重要力量。