PECVD（等離子體增強化學氣相澱積）系統

產品描述

產品應用：主要用於生長鈍化與多層布線介質用的氮化硅、氧化硅及摻雜等，以及125mm×125mm或156mm×156mm太陽能硅片上澱積氮化硅減反射鈍化膜。

產品特點：
◆ 用工控機對工藝時間，溫度，氣體流理，閥門動作，反應室壓力實現全自動控制

◆ 採用進口壓力控制系統，閉環系統，穩定性高

◆ 採用進口耐腐蝕不鏽鋼管件、閥門，確保氣路氣密性

◆ 具有完善的報警功能及安全互鎖裝置

◆ 具有超高溫報警，MFC報警，反應室壓力報警，RF報警，高壓空氣壓力報警，高壓空氣壓力報警，N2壓力報警，水流報警等

◆ 懸臂式送料裝置

◆ 適合晶體硅太陽能新工藝的探索實驗

主要技術指標：

1. 工作溫度：150～500℃，

2. 裝片數量(太陽能電池片)：250片/每爐管（125mm×125mm） 192片/每爐管（156mm×156mm）

3. 壓力調節範圍：13~300Pa連續可調，閉環控制

4. 溫度長度（150~500℃）：1000mm

5. 溫區穩定性：±2℃（450℃）

6. 澱積速率：30nm/min

7. 極限真空度：優于1Pa

8. 澱積膜均勻性：片內≤±5%

9. 射頻單元：進口RF電源,40/400KHZ連續可調