特點：
1.優良的光亮與整平性能，特別是在低電流部位。
2.弔鍍與滾鍍均可，具有較好的分散性能。
3.鍍層表面無麻點，外觀好。
4.沉積速度快，在4.5安培/平方分米的電流密度下，每分鐘可鍍上1微米的銅層，節省電鍍時間。
5.操作範圍廣，便於操作管理。
6.鍍層韌性好，容易拋光，耐腐蝕性較好。
7.雜質容忍量高，約800-1000安培小時/升，才需要用活性炭粉處理。