RIE ICP等離子刻蝕機，反應離子刻蝕，感應耦合等離子刻蝕--北京特博萬德科技有限公司

  適用於Si,SiO2,金屬，III-V,有機物等材料的刻蝕，系統有多達七種工藝氣體可以用於刻蝕氮化物、氧化物以及任何需要氟基化學刻蝕的薄膜或基片（如碳、環氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、聚酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢以及鎢鈦）

型號有經濟型和高端型，有科研應用的型號和小規模及大規模生產的型號，產品性價比高。歡迎您的來電索取相關產品資料。