光刻機

光刻機
型號:-
品牌:-
原產地:美國
類別:工業設備 / 電子電氣產品製造設備
標籤︰紫外光刻機 , 曝光機 , 光刻機
單價: -
最少訂量:-
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產品描述

產品系列包括經濟型臺式光刻機、高精度半自動和高精度全自動模式。

 

能力

數值

X, Y方向運動距離

+/-6.5mm

Z方向運動距離

+/-1250微米

運動增益

0.25微米,最小可達0.1微米

X, Y方向側向偏離度

Z方向運動100微米偏離度小於0.1微米

Theta; 精度

+/-3°;0.001°

卡盤找平

楔形補償平衡系統

光罩旋轉

+/-15°

光罩和基片間壓力

可以自行設置

光刻模式

靠近、軟接、硬接和真空接觸

預對準能力

精對準能力

小於1微米

光罩尺寸

最大 9×9

光刻能力:

0.6微米(近紫外);0.4微米(中紫外);0.25微米(深紫外)

適用樣品尺寸

50 200mm

光刻機 1

會員信息

北京特博萬德科技有限公司
國家/地區︰北京市朝阳区
經營性質︰生產商
聯繫電話︰13810504825
聯繫人︰李先生 (經理)
最後上線︰2012/06/18