鍍膜儀（鍍碳儀，離子濺射儀，噴金儀）

型號：	EMS150 R
品牌：	EMS
原產地：	美國
類別：	辦公、教育 / 教學用具、器材
標籤︰	鍍膜儀 , 離子濺射儀 , 噴金儀
單價：	-
最少訂量：	-

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產品描述

EMS 450型鍍碳儀（真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀）已經不再供貨！

新一代鍍膜儀-EMS150R 型鍍膜儀（真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀）採用最新技術研製而成，彩色觸摸液晶屏，快速的參數輸入，數種碳絲匹配，友好的用戶界面，帶給你不一般的操作感受！

提供3個版本的儀器：

EMS150R S – 噴金儀/離子濺射儀（適用於真空噴鍍非氧化型金屬，如金，鉑，鈀等）

EMS150R E – 噴碳儀/碳蒸鍍儀（適用於真空噴鍍碳膜，特別適用於SEM，用碳絲或碳繩）

EMS150R ES –真空鍍膜儀（離子濺射儀和碳蒸鍍儀的結合體）

EMS150R是一款多功能緊湊型機械泵抽真空鍍膜系統，對於SEM樣品制備及其它鍍膜應用非常理想。直徑為165mm的腔室可容納多種需要鍍膜的樣品，在SEM應用中提高成像質量。

EMS150R ES這個雙重用途、結構緊湊、機械泵抽真空的鍍膜系統可提供無與倫比的多用途鍍膜,其標配有濺射插入頭和碳絲蒸發插入頭。快速、易更換的鍍膜插入頭，能在同一個緊湊設計中實現金屬濺射、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉換。注意，輝光放電選項限EMS150R S和EMS150R ES可用，它可實現樣品表面改性（如疏水表面改為親水表面）。

採用全自動觸摸屏控制,可快速輸入數據。自動放氣控制功能確保了濺射期間最佳的真空狀態，可提供良好的一致性和可重複性。

智能識別系統可自動探測安裝了何種類型的鍍膜插入頭，立即運行相應的鍍膜方案。可存儲多個用戶自定義的鍍膜方案，這對於需更改鍍膜參數實現不同應用的多用戶實驗室非常理想。多種樣品台組件適用於各種尺寸和類型的樣品；所有樣品台都具有快速、易更換及落入式設計的特點。

可預編程的鍍膜參數及方案確保結果一致，具有可重複性。設計先進的碳蒸鍍插入頭操作簡單,具有對蒸發電流參數的完全控制，確保了SEM應用中一致的和可重複的碳沉積。可選的膜厚監控附件用於可重複的膜厚控制。

濺射、碳蒸鍍、輝光放電插入頭及多種可選件，使EMS150R對於多用戶實驗室應用非常理想。可濺射一系列非氧化性金屬，如金、銀、鉑和鈀等等。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非常快。也可選用碳棒蒸發。還可應用於金屬薄膜研究及電極的應用。

儀器參數：

儀器尺寸	585mm(W) x 470mm(D) x 410mm(H)
包裝尺寸	725mm W x 660mm D x 680mm H (36.8kg)
工作腔室	硼硅酸鹽玻璃152mm (內直徑)x 127mm H
安全鐘罩	聚乙烯對苯二酸，柱形
顯示屏	彩色液晶320 x 240
用戶界面	直觀的圖形界面，觸摸鍵。記憶功能：維護提醒及最後十個鍍膜方案日誌記錄
重量	28.4Kg
樣品台	直徑為50 mm的旋轉樣品台，上有6個樣品座，可配15mm, 10mm, 6.5mm或者3.1mm樣本座，轉速為8-20rpm
真空泵	Edwards RV3 50L/s兩級真空泵，Pirani 真空計
極限真空度	潔淨系統可達 2x10-2 mbar，充氮氣
噴鍍真空範圍	3 x 10-2 -5 x 10-1mbar
安培計	碳繩：0-60 Amps，1.4mm Ø碳棒：1-90 Amps

濺射靶材或碳蒸發源的選用：

金：常規SEM應用時使用最普遍的靶材；濺射速度快且導電效果最好。

銀：高導電性且具有高的二次電子發射率。濺射上去的銀易於去除，可使樣品成像后還原到其原來狀態。

鉑：在機械泵抽真空的濺射鍍膜系統中它的顆粒尺寸最小，且具有優良的二次電子發射能力。

鈀：用於x射線能譜分析非常理想，因其譜線分布衝突相對較低。

金/鈀合金（80:20%）：通過限制沉積期間金顆粒的團聚，鈀可提高最終分辨率。

碳絲蒸鍍：碳絲蒸鍍過程的閃蒸特性及快速更換碳絲的能力，使其處理樣品速度非常快。

碳棒蒸發：用於需要減慢速度但可控性更好的蒸發過程，可制備更趨向無定形的碳膜。

EMS150R S：

貨號	產品名稱	規格
4500	EMS150R S Rotary pumped sputter coater, includes an 57mm Ø x 0.1mm gold target	1
4501	Quick-release sputter insert for EMS150R S and EMS150R ES – suitable for non-oxidising (noble) metals. Supplied with A 57mm Ø x 0.1mm thick gold target as standard. For additional noble metal targets (eg Platinum, Gold / Palladium, Silver) see Sputtering Targets section	1
4502	Rotation stage, 50mm Ø with adjustable height for target to sample distances of 38mm-79mm (supplied with 2 mounting pillars). Note: this stage does not tilt – for tilting stage see Specimen Stages section	1

EMS150R E：

貨號	產品名稱	規格
4503	EMS150R E Rotary pumped carbon fibre evaporator, supplied with carbon fibre / cord	1
4504	Quick-release carbon fibre evaporation insert for EMS150R E and EMS150R ES – suitable for evaporation of carbon fibre and carbon cord	1
4506	Rotation stage, 50mm Ø with adjustable height for target to sample distances of 38mm-79mm (supplied with 2 mounting pillars). Note: this stage does not tilt – for tilting stage see Specimen Stages section

EMS150R ES：

貨號	產品名稱	規格
4507	EMS150R ES Rotary pumped sputter coater, includes an 57mm Ø x 0.1mm gold target, and carbon fibre evaporator, supplied with carbon fibre / cord	Each
4508	Quick-release sputter insert for EMS150R S and EMS150R ES – suitable for non-oxidising (noble) metals. Supplied 57mm Ø x 0.1mm thick gold target as standard. For additional noble metal targets (eg Platinum, Gold / Palladium, Silver) see Sputtering Targets section	Each
4509	Quick-release carbon fibre evaporation insert for EMS150R E and EMS150R ES – suitable for evaporation of carbon fibre and carbon cord	Each
4510	Rotation stage, 50mm Ø with adjustable height for target to sample distances of 38mm-79mm (supplied with 2 mounting pillars). Note: this stage does not tilt – for tilting stage see Specimen Stages section	Each