離子濺射鍍膜儀（鍍碳儀，噴金儀）

型號：	EMS150 T
品牌：	EMS
原產地：	美國
類別：	辦公、教育 / 教學用具、器材
標籤︰	鍍膜儀 , 離子濺射儀 , Q150T
單價：	-
最少訂量：	-

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產品描述

EMS150T的機殼是整體成型的，結構堅固耐用，配有氣冷的70L/S的渦輪分子泵，自動進氣控制保証了濺射期間最佳的真空水平，真空腔室直徑為165mm並帶有防爆裝置。EMS150T具有“真空閉鎖”功能，可在設備不工作時維持腔室的真空度，從而保証高真空的性能。

EMS150T系列全自動高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機的簡單操作、頂級的鍍膜質量和對熟手/新手都很理想的用戶界面，讓用戶真正領略至臻完美的鍍膜品質！

根據不同的應用方向，EMS150T細分為三個型號：

EMS150TS：高分辨率濺射鍍膜儀High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater，可濺射易氧化和不易氧化金屬，可選各種濺射靶材，包括場發射電鏡常用的銥和鉻。

EMS150TE：高真空鍍碳儀，可製作高穩定的碳膜和表面覆形膜，是TEM應用最理想的選擇。

EMS150TES：集合了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空沉積鍍膜方式，鍍膜頭可在几秒內快速更換，邏輯系統自動識別所裝的鍍膜頭類型，並顯示相應的操作模式。

注：上述各型號都可配備如下可選的附件：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等

觸摸屏控制：

EMS150T操作十分簡單，直觀的觸摸屏，即使最不熟練的操作者也可以自由操作，同時可方便的鍵入和存儲數據。為了方便使用，設備中已經預存一些了典型的濺射和蒸發鍍膜參數資料。

鍍膜插入頭選項：

具有一系列可互換、即插即用的鍍膜插入頭

濺射插入頭適用於易氧化和不易氧化金屬材料。直徑57mmX0.3mm厚鉻靶為標準靶材。

可用另外的濺射插入頭來快速更換鍍膜材料（僅為TS和TES型號）

適用於3.05mm碳棒蒸發插入頭

適用於6.15mm碳棒蒸發頭，建議使用3.05mm直徑的碳棒，它們更容易控制、更經濟。

碳絲蒸發插入頭

金屬蒸發和光闌潔淨頭，包括向上蒸發或向下蒸發（僅為TE和TES型號）

樣品台選項

EMS150T具有各種易更換的樣品台，drop-in落入式設計具高度可調（除旋轉行星台）。

·標準配置為旋轉台, 直徑為50mm

·可預設傾斜角度的旋轉台（可選）

·可變角度旋轉行星台（可選）

·可用於4〞晶圓的平面旋轉台（可選）

·顯微鏡載玻片樣品台（可選）

其它選項

·用於高樣品的加高腔室

·膜厚監測器（FTM）

·用於測量低和高真空的全範圍真空計

特點和優點:

● 金屬濺射或碳蒸發或兩者兼備：一體化設計，節約空間
● 精細顆粒濺射：高分辨率場發射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細鍍膜應用
● 渦輪分子泵高真空系統：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材範圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應用，也為許多薄膜應用等材料科研領域提供理想的鍍膜平台
● 全自動觸摸屏控制：快速數據輸入，簡單操作
● 可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想
● 與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預編程自動真空控制
● 精細的厚度控制：使用膜厚監控選項
● “智能”式系統識別：自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型
● 高真空碳蒸鍍：對SEM和TEM鍍碳膜應用非常理想
● 蒸發電流波形控制
● Drop-in落入式快換樣品台（標配旋轉台）
● 真空閉鎖功能：可讓工作腔室處於真空狀態，改善後續真空效果，或在真空條件下保存樣品

鍍制厚膜能力：一次真空條件下的濺射時間可長達60分鐘（材料科研領域的應用）
● 人體工程學設計的整體成型機殼：易維護和易拆裝
● 帶有本地FTP服務器連接的以太網端口：簡單的程序更新
● 設有功率因素補償，有效利用電能，降低運行成本
● 符合當前電器法規（CE認証）

EMS150T全自動鍍膜系統技術指示：

工作腔室：150mm（內徑）*127mm（高）硼硅酸鹽玻璃腔室，並帶整體安全防護罩

觸摸屏用戶界面：帶有觸摸按鈕的全圖像界面，包含多達十個鍍膜程序，可提醒何時需要維護。

樣品台：轉速為8-20rpm的旋轉台

真空系統：

渦輪子分子泵：帶有內部空氣卻的渦輪分子泵，抽速為70L/s

旋轉機械泵：抽速為50L/m的兩級旋轉機械泵，帶有油污過濾器

真空測量：皮拉尼真空計作為標配

極限真空度：10^-5mbar兩級

濺射工作真空範圍：5*10^-3到5*10^-1mbar

工藝參數：

濺射：0-150mA。可預設膜厚（需FTM選項）或使用內置定時器。

碳蒸發：穩定的無紋波直流電源控制的脈衝蒸發，確保源自碳棒或碳絲的可重複蒸碳。

電流脈衝：1-90安培

金屬蒸發和光闌清潔頭：用於源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發。可配備一個標準鉬舟用於清潔SEM或TEM光闌。

金屬蒸發頭被安裝用於向下蒸發，但向上蒸發也能通過配裝兩個延長電極（可提供）而獲得。

Services and other information：

氣體：濺射工作氣體氬氣，99.999%（TS和TES版本）；氮氣，放氣破真空氣體（可選）

電源需求：90-250V~50/60Hz 1400VA 包括旋轉機械泵；110/240V可選擇電壓

尺寸：儀器機箱585mm寬*470mm*410mm高(總高650mm)

儀器總重量：33.4KG

濺射靶材和碳耗材供應：EMS150TS和EMS150TES標配鉻靶，但可選用的其它靶材範圍很寬，包括那些廣氾用於SEM制樣的靶材，如：Au金靶，Au/pd金鈀，Pt鉑靶，和Iridium銥靶。對非SEM應用，可選用的靶材包括：AI鋁，Ta鉭，ITO氧化銦錫，Fe鐵，W鎢，Ti鈦，等等：碳制品包括高純度碳棒和碳絲纖維。

儀器選購：

貨號	產品名稱
3390	EMS150T E Turbomolecular pumped carbon evaporator suitable for TEM and SEM applications. Fitted with a carbon rod evaporation insert for 3.05mm Ø carbon rods. Supplied with carbon rods (3.05mm Ø x 300mm) and a carbon rod shaper (manual operation)
3380	EMS150T S - High resolution turbomolecular pumped sputter coater, including a 54mm Ø x 0.3mm chromium target
3400	EMS150T ES - High-resolution turbomolecular pumped sputter coater, including a 57mm Ø x 0.3mm chromium target and high vacuum carbon rod evaporation coater for 3.05mm Ø carbon rods.
91003	Edwards RV3 50L/s two-stage rotary pump, with vacuum hose, coupling kit and oil mist filter