該技術採用彎管磁過濾原理，把由陰極電弧蒸發出來的金屬離子、碳離子通過電場磁場的聚焦、偏轉、過濾等步驟后，進一步沉積到工件表面，其鍍膜粒子為離化的等離子，是目前塗層沉積離化率較高的技術方式。與普通鍍膜PVD、CVD鍍膜技術相比具有更高，更均勻的能量，從而在低溫條件下可在工件表面形成緻密、超高硬度、優良附着力的膜層，解決了其他傳統鍍膜 技術不可避免的由於高溫沉積而引發的眾多問題。

沉積的碳層，也就是DLC層，具有以下特點：

厚度μm0.2～0.5，硬度（HV）5000～7000

不高于溫度450℃

塗層生成溫度100～150

摩擦係數0.1～0.15

適用範圍 ：超高硬度，超低摩擦係數，抗磨損性。適用於銅鋁等粘性金屬、PCB線路板、木工刀具的加工及模具，光學模具，滑動部件及石墨加工等

技術特點：

1、特殊陰極/ 陽極設計，確保電弧穩定性

2、特有的側面引弧，穩定減少污染

3、合理磁場設計，穩定控制弧斑運動

4、靶材利用率高，使用週期長

5、全自動工藝，操作方便

6、參數記錄，可存儲和輸出