鋯（Zr），化學元素符號為Zirconium

一、鋯（Zr），化學元素符號為Zirconium，是一種高性能的磁控濺射靶材材料，廣氾應用於微電子、半導體製造、光學鍍膜、航空航天以及核能等多個高科技領域。以下是對鋯靶材的基本介紹、物理性能及其在行業中的應用優勢的詳細闡述。我司專注研發與生產，鑄就行業精品。公司生產單材質靶材、電子束蒸發顆粒材料如下：

二、鋯靶材基本介紹

鋯靶材主要由鋯（Zr）元素組成，是一種在薄膜沉積過程中廣氾應用的材料。鋯靶材的制備過程通常涉及高純度的鋯金屬，通過熔煉、緻密化、切割、磨削和拋光等一系列複雜工藝，最終加工成所需尺寸和形狀的靶材。這些靶材在物理氣相沉積（PVD）和濺射沉積等過程中，能夠產生高純度的鋯蒸氣，從而在基材上形成均勻、高質量的薄膜。

三、物理性能

1、純度：鋯靶材的純度是影響其性能的關鍵因素之一。高質量的鋯靶材通常要求純度在99.9%以上，部分高端應用甚至要求達到99.95%或更高。高純度確保了靶材在沉積過程中不會產生雜質，從而保証了薄膜的純度和質量。

2、密度：鋯的密度為6.49-6.51g/cm³，而理想的鋯靶材應接近這一理論密度。高密度靶材具有更長的使用壽命和更好的熱傳導性能，能夠減少孔隙和缺陷，提高薄膜的均勻性和質量。

3、熔點：鋯的熔點高達1852-1855℃，這使得鋯靶材在高溫環境中不易熔化或變形，能夠確保薄膜沉積等過程的順利進行。

4、化學成份：鋯是一種有光澤的灰白色強過渡金屬，化學性質穩定，不易與水反應，但可溶于氫氟酸和王水。鋯容易吸收氫、氮和氧氣，在高溫下可與非金屬元素和許多金屬元素反應，生成固體溶液化合物。

四、應用優勢

1、微電子和半導體製造：在微電子和半導體製造中，鋯靶材常用於濺射和化學氣相沉積（CVD）技術。由於其高純度和良好的薄膜均勻性，鋯靶材成為制備高質量薄膜的理想材料。鋯薄膜可以作為電極材料、互連線、柵極電極以及保護層，應用於晶體管、集成電路和其他半導體器件中，提供穩定的電性能和延長電路壽命。

2、光學鍍膜：鋯靶材在光學鍍膜領域也有廣氾應用。鋯薄膜鍍在光學透鏡和反射鏡表面，可以顯著提高透光率和反射率，增加光學器件的耐用性和環境適應性。這些性能的提升對於提高光學器件的性能和使用壽命至關重要。

3、航空航天：鋯靶材在航空航天領域主要用於製造高性能合金。這些合金具有優異的機械性能和耐腐蝕性，可用於飛機的結構材料，如機身和翼梁，提供高強度和輕質特性。鋯合金在高溫環境下仍能保持較高的強度和硬度，適合製造高溫結構件。

4、核能：鋯靶材在核能行業中的應用也至關重要。鋯在強輻射環境中表現出色的抗輻射性能，使其成為核反應堆中燃料包殼材料和控制棒材料的理想選擇。鋯合金燃料包殼能夠保護核燃料芯免受冷卻劑和腐蝕劑的侵蝕，確保反應堆的安全運行。

5、醫療設備：鋯靶材因其耐輻射性和生物相容性，在放射性醫療設備和醫療器械中也有廣氾應用。例如，鋯靶材用於X射線管的靶材部分，提供穩定的輻射源和高質量的成像效果；同時，鋯合金也被用於製造人工關節和骨固定器等醫療器械，提供優異的耐磨性和生物相容性。

綜上所述，鋯靶材作為一種高性能的磁控濺射靶材材料，具有高純度、高密度、高熔點等優異的物理性能，在微電子、半導體製造、光學鍍膜、航空航天以及核能等多個高科技領域具有廣氾的應用優勢和前景。隨着科技的不斷髮展，鋯靶材的應用領域還將不斷拓展和深化，為科技進步和社會發展做出更大的貢獻。