用 　途:

主要用於半導體光電子器件、硅器件等製作時低真空狀態下的實驗及科研。 

--------------------------------------------------------------------------------------

主要特點： 具有體積小；耗電省； 組合方便； 使用靈活。 

-------------------------------------------------------------------------------------   

組成部分：

 ①不鏽鋼工作室［分為 “帶加熱基座”及 “無加熱基座”兩類 ］ 

  ②低真空系統［極限真空度 7Pa］ 

  ③氣路系統（包括閥門、流量計等） 

    ④電氣控制系統（根據用戶的不同整機配置設計） 

-------------------------------------------------------------------------------------