用 　途:
主要用於高溫氧化，硼、磷擴散等工藝，是製作硅器件的關鍵設備之一。
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主要指標：
● 爐 管 直 徑: 120mm(可適用於 2”、3”晶片)
● 最 高 溫 度：1200 ℃
● 溫度使用範圍： 350 ℃ ～ 1200℃
● 恆溫區長度： 400mm
● 溫度均勻性： ± 1℃
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