特点：
1.不含氟,与早期高速硬铬电镀工艺相比，不侵蚀低电流区。
2.沉积速度比传统硬铬工艺快，阴极电流效率高达25%。可以提高生产效率。
3.硬铬镀层具有相当高的微裂纹，微裂纹数可达500条/英寸，故可得到优秀的耐腐蚀性能。
4.与传统单一硫酸催化剂相比，镀层厚度更均匀，减少高电流区之过厚沉积。
5.优秀的覆盖力以及不易于形成树状或烧焦。
6.在很宽的电流密度范围内都可得到平滑、细致、光亮的镀层。
7.镀层与基体结合力强。
8.不会强烈侵蚀铅锡阳极。工艺稳定性好。