硅靶靶材高純4~6N 電子玻璃噴塗靶材可定製

型號：	定制型
品牌：	拓吉泰
原產地：	中國
類別：	化工 / 無機原料 / 氧化物
標籤︰	純硅靶材 , 真空鍍膜靶材 , 磁控濺射靶材
單價：	¥40000 / 根
最少訂量：	1 根

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產品描述

噴塗硅靶材 Spray Si Target

產品說明Product description

以等離子體為熱源，在真空環境，或負壓氮氣或氬氣保護環境下將Si粉末加熱到熔融或半熔融狀態並高速衝擊背管表面形成緻密塗層，從而制備出高純度、低氧含量、高緻密度Si靶材。

With plasma as the heat source, high purity, low oxygen content, high density Si targets are produced from Si powder. The Si powder is heated to molten or semi-molten state in vacuum or at a negative pressure of nitrogen (N2) or argon (Ar) and deposited on the surface of backing tube at high speed to form dense coatings.

產品特點Products feature

項目 Item	參數 Specifications	檢測手段 Testing method
純度Purity（Si+B）	≥ 99.99%
密度Density	≥2.2 g/cm3	阿基米德密度儀 Archimedes densimeter
雜質含量Inclusions	Fe +Al+Ca: ≤50 ppm B: ≤100 ppm O: ≤2000 ppm N: ≤500 ppm 雜質總和(O、N、B除外): ≤100 ppm Total impurity (excluding O, N, B ): ≤100 ppm	ICP
電阻率 Electrical resistivity	≤10Ω·cm	四探針電阻率儀 Four probe resistivity meter

背管材質 Backing tube

-選用304/316L不鏽鋼（無磁）。

304/316L stainless steel (non-magnetic).

靶材尺寸Dimension

-按照圖紙要求加工

According to customized drawings.

應用領域Applications

-用於製作SiO2/Si3N4膜，主要用於光學玻璃，觸摸屏之AR膜系，Low-E鍍膜玻璃，半導體電子，平面顯示，觸摸屏。

For deposition of SiO2/Si3N4 films, for optical glasses, AR films of touch panel screens, Low-E glasses, semiconductor devices and flat panel screens.